电子束光刻技术相关论文
当今,5G通信技术和市场正迅速发展,业界对更大输出功率、更高频率和更高击穿电压类通信芯片的需求开始在近些年争相迸发。近十年,......
电子束光刻邻近效应校正技术是采用电子束直写光刻技术开展纳米器件和集成电路研制中的关键技术。虽然电子束光刻系统具有纳米级的......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
利用电子束光刻技术制作了基于钛酸钠纳米线的纳米器件.分别在大气和真空两种环境下测量了该器件的电学特性,发现器件所处的气体环......
随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础.纳米光刻技术是制作纳米结构的基础,具有重要的应用前景.文章介......
据报道．美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料．可广......
荷兰能源研究中心主持，开发出使用塑料作为基片衬底的新型非晶硅和微晶硅薄膜，投资研究如何在电池块后侧生成光线分散纹理。纳米大小......
威斯康星大学麦迪逊分校的工程师们开发了一种简易、便宜地在挠性塑料上成卷制造高性能晶体管的方法。此方法是在聚酯膜上覆有单晶......
化学放大胶(Chemically Amplified Resists,简称CARs)是下一代光刻技术中极具发展潜力的一种光学记录介质.介绍了化学放大胶在电子......
报道了采用电子束光刻、反应离子刻蚀及热氧化等工艺，在p型SIMOX(separation by implanted oxygen）硅片上成功制造的一种单电子晶体......
麻省理工学院（MIT）的研究人员们宣称已经开发出了一种新技术，能将用于芯片图案蚀刻的高速电子束光刻的分辨率尺度推进到9nm（纳米），远远超......
利用电子束光刻技术制作了基于钛酸钠纳米线的纳米器件.分别在大气和真空两种环境下测量了该器件的电学特性,发现器件所处的气体环......
美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料,可广泛应......
在微电子集成领域当中，电子束光刻技术和ICP刻蚀技术是十分重要的技术，能够通过一系列的生产步骤，去除晶圆表面薄膜的特定部分，并在晶......
微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度，而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。介绍了近年来电子......
据《S．I．》杂志1998年第三期报道，由Glasgow大学电子和电气工程系组建的KelvinNanotechnology公司声称，在硅衬底上的PMMA层上，用直接描......
本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析，重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子......
最近Semiconductor International与里德调研公司合作,向光刻工作者调查了对下一代光刻技术的要求与前景展望。果然不出所料,受访......
