钛薄膜相关论文
为了研究溅射电流对磁控溅射沉积钛薄膜光、电学性能的影响,在其它工艺参数相同的情况下改变溅射电流(0.3 A～0.8 A)制备了6组薄膜样......
为了在柔性不锈钢基底上构建一维纳米TiO2结构,提高柔性染料敏化太阳能电池的效率,本研究先采用直流磁控溅射的方法在不锈钢基底上......
为了研究纳米结构金属Ti的纳米力学性能,在偏压为0~140 V的范围内,采用磁控溅射方法制备纯钛薄膜。并采用X射线衍射仪(XRD)、扫描......
借助于原子力显微镜研究了离子束溅射沉积工艺中入射离子能量对制备的Ti薄膜表面形貌的影响.对薄膜表面高度数据进行相关运算,发现......
室温磁制冷技术具有节能、环保等突出优点,越来越受到人们关注。钆(Gd)在室温具有优良的磁热效应,同时具有良好的韧性和易加工性,......
氮化镓(GaN)是Ⅲ-Ⅴ族宽带隙半导体材料，晶体结构为六方纤锌矿结构，在室温下的禁带宽度为3.39 eV，在光电子和微电子领域的应用前景广......
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
我们讨论用扫描探针显微技术研究超薄无序钛薄膜局域氧化过程,并利用此氧化过程实现薄膜表面纳米尺度网板修饰.实验说明针尖诱导氧......
为了研究纳米结构金属Ti的纳米力学性能,在偏压为0-140 V的范围内,采用磁控溅射方法制备纯钛薄膜。并采用X射线衍射仪（XRD）、扫描电......
采用物理化学稳定性较好的石英玻璃为基底，用非平衡磁控溅射技术于其表面沉积生物相容性良好的钛薄膜，然后在钛薄膜表面共价固定纤连......
采用常温直流磁控溅射法在201无镍不锈钢表面沉积了纯钛薄膜。XRD分析表明,薄膜是六方金属钛结构,并且膜相数量受沉积条件的影响。......
采用常温直流磁控溅射法在廉价201无镍不锈钢表面沉积了纯钛薄膜.通过XRD和SEM分析了201上钛薄膜的结构和形态受沉积条件的影响.结......
采用直流磁控溅射的方法在柔性不锈钢基底（50μm）上沉积纯钛薄膜,后在NaOH碱溶液中经水热法制备了非钛基大长径比的一维TiO2纳米线薄......
在聚变能源研究、军用核技术、氚工艺及涉及氚的实验技术中,由于氚衰变或其它核反应产生的氦,经常使氦的积累与氢同位素共存。因此......
辐照损伤是核材料研究中最具特色和难度的重要问题。特别是由于α放射性的固体所产生的α粒子(如钚)或含氚材料中因氚衰变产生的氦......
采用直流磁控溅射镀膜技术,在硅片上以不同的工艺参数（如溅射功率、工作气压）制备钛薄膜。通过单因素试验研究了溅射功率和工作气压......
TiO2是人们公认的性能优异的光催化剂,它具有性质稳定、经济实惠、无毒等优点。但是YiO2在光催化降解污染物时,对太阳光的利用率较......
采用直流磁控溅射的方法在导电玻璃(FTO)上制备柱状晶结构的钛薄膜,研究了磁控溅射电流和基底温度对溅射钛薄膜微观结构的影响,分......
为了在柔性不锈钢基底上构建一维纳米TiO2结构,提高柔性染料敏化太阳能电池的效率,本研究先采用直流磁控溅射的方法在不锈钢基底上......
为了在玻璃基底上制备TiO2纳米管阵列,更好地应用于气体传感器、染料敏化太阳能电池和其他的光学器件,本文首先采用射频磁控溅射方......
氮化镓(GaN)是Ⅲ-Ⅴ族宽带隙半导体材料,晶体结构为六方纤锌矿结构,在室温下的禁带宽度为3.39eV,在光电子和微电子领域的应用前景......
为了研究负偏压功率对直流溅射沉积铜、钛两种金属薄膜电阻率的影响,在采用相同的工艺条件溅射沉积两种金属薄膜的同时分别加上0、......
采用射频磁控溅射在玻璃基片上制备了参数不同的钛膜，并选取钛膜在HF水溶液中恒压阳极氧化得到TiO2纳米管阵列。结果表明：溅射压强从......
