反应溅射法相关论文
氧化钒是一种具有很多物理和化学特性的材料，可以被应用于众多领域。近年来,为了满足器件进步的需求，人们开始关注掺杂氧化钒的性质......
本论文分别采用了反应溅射法和热活性法两种途径制备Si纳米晶,对其光致发光性能、微观组织、相结构和表面价键进行了分析,并对纳米......
以TiN为代表的硬质陶瓷薄膜作为刀具涂层取得了巨大的成功,有力地推动了制造业的发展。高速、干式切削等加工技术的进步对刀具涂层......
与硅基的薄膜晶体管相比，透明氧化物薄膜晶体管具备更好地电学一致性和更高的载流子迁移率，并且绝大多数透明氧化物薄膜晶体管在可见......
TiO_2-Co-TiO_2 三明治电影成功地在玻璃和做收音机频率的交替的使用的硅潜水艇阶层上被种反应磁控管劈啪作响并且直接当前的磁控......
在准备，结构和 NbN 电影的光性质的一些基本研究被执行。NbN 薄电影被 DC 反应磁控管在不同 N_2 部分压力和从 -50 ℃到 600 ℃ X ......
用反应溅射法制备Fe-N薄膜和不同Ta含量的Fe-Ta-N薄膜。研究了这些薄膜的结构和磁性与Ta含量的关系。实验发现，Ta的加入有利于抑制......
Ternary Zn1-xCdx O alloying films were deposited on silicon substrates by a reactive magnetron sputtering method.The str......
Utilizing self-propagating high-temperature synthesis(SHS) reactive spraying technology,the feeding self-combustion aggl......
用反应溅射法制成了SiO2薄膜,应用傅立叶变换红外吸收光谱图研究其特性。Si-O-Si键的伸缩振动吸收峰和弯曲振动吸收峰分别位于1100......
The sputtering yield of the Si3N4 thin film is calculated by Monte Carlo method with different parameters.The dependence......
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利用射频磁控反应溅射法，以Ａｒ，ＣＨ４为原料气体，在较宽的工艺参数范围内制备出了ＧｅｘＣ１－ｘ薄膜，研究了极板间距对沉积的影响。结果表明，随极板间距的减小......
MoS_2 涂层用失衡的双极的搏动的 DC (直接电流) 被准备在不同目标，阴极电流密度，功率模式和偏爱电压下面的磁控管劈啪作响仪器。形......
The isothermal and cyclic oxidation behaviors of bulk pure nickel and its Ni-0.5Y microcrystal coating sputtered by magn......
利用反应溅射法制备Sm-Fe超磁致伸缩薄膜；直流磁控溅射蒸镀法制备Fe2.45-Sm合金压缩超磁致伸缩膜；在铜基片两面蒸镀Fe-Pd（拉伸）与Fe-Sm......
用反应溅射法制成了SiOx-薄膜，研究其傅立叶变换红外吸收光谱图特性。Si-O-Si键的伸缩振动吸收峰和弯曲振动吸收峰分别位于1100cm^-......
本文研究了Cd_2SnO_4薄膜某些光学的性质。Cd_2SnO_4薄膜具有许多优异的光电特性,例如它有很低的电阻率,同时又有十分高的光透射率......
随着航空航天技术跨入超高音速阶段,红外窗口和头罩元件经受着气动热/力等极端使役环境,使得窗口元件的增透保护显得尤为重要,因此......
<正> 利用等离子体辅助物理气相沉积制备化合物薄膜(氧化物、碳化物、氮化物和硫化物等)技术已广泛应用于很多工业领域,包括微电子......
