溅射系统相关论文
运用直流磁控反应溅射技术,在不同的氧气压强下,沉积NiOx薄膜。随后在1MKOH电解溶液中处理成NiOxHy。测量了NiOxHy薄膜的电化学性质。在0.35-2.5μm波长范围内测定了......
用射频偏压溅射在较高氧压下沉积的六角密排结构的C轴平行于衬底的混合晶向结构的多晶ZnO薄膜,对紫外光的照射有较快的光响应.在此ZnO膜上再......
叙述了电子回旋共振(ECR)微波等离子体技术的基本工作原理、主要特点以及发展概况,着重从ECR等离子体实验系统、工艺应用、诊断技术和机理研......
本文研究了利用YSZ助作缓冲层Si(100)衬底上溅射BSCCO高温超导薄膜的生长工艺,分析了生长条件(主要是生长温度)对BSCCO高温超导相......
磁控溅射法制备SiO2 膜传统上采用射频溅射工艺,但它成本较高,效率较低,无法充分满足大面积镀膜工业生产的需要。近年来,反应磁控溅射在解......
十年话沧桑铝氮/铝选择性吸收涂层溅射镀膜机的诞生与发展郑世民薛祖庆李云松殷志强一从技术成果到社会生产力1985年初,第三代全玻璃真......
一、引言 溅射是一种早为人们所知晓的物理现象。在镀膜界,溅射与蒸发两种工艺进行了长期的竞争。虽然溅射具有蒸发所不能具备的某......
石英晶体胰厚监控仪已广泛应用于蒸发镀膜,离子刻蚀厚度的精细控制和真空系统污染监测等方面.但一般的石英晶体膜厚监控仪使用的蒸......
采用直流平面磁控反应高速率溅射的方法制备 ZnO 薄膜。讨论了衬底倾斜放置时,改变衬底偏压对柱状织构倾斜度及比取向度,f_((002)(......
本文报道了适用于真空集热管的碳化钛(TiC_x)太阳能选择性吸收薄膜的制备及性能。采用磁控溅射单靶金属钛反应溅射法在铜基体上沉......
自1988年Baibich等人在Fe/Cr多层膜中发现巨磁电阻(GMR)效应以来,人们对各种磁/非磁金属多层膜做了大量的研究.Fe/Cr,Co/Cu和Fe/Cu......
结合实验中的工艺技术参数,以Pb,Ti两金属靶的反应共溅射为例,对我们提出的金属氧化物薄膜的多离子束反应共溅射模型进行数值计算,......
化学气相沉积金刚石薄膜是近年来发展很快的一种新材料,着重描述了在减少薄膜的散射从而改善其光学性质方面的工作与成果,并介绍了它......
提出了一个反应溅射的物理溅射动力学模型,基于捕获效应,并考虑了参数间相互影响.计算出的溅射参数与实测值相符.模型较好地描述了......
早在1938年,美国就研制成功了多层减反膜,稍后在欧洲也取得了成功。减反膜在光学薄膜生产中处于非常重要的地位:照像物镜、眼镜片......
BPS研制出一种用于PDP应用的新型高速MgO溅射源。该溅射源与现有的用于大批量生产的立式串级系统完全兼容。工艺过程是基于在金属镁靶上进行......
分别用m(Zr) /m(Ti)配比为 30 / 70、5 3/ 4 7、70 / 30的源材料及陶瓷块状靶和预烧粉末靶的形式 ,在Ag、Au、Pt衬底上溅射制取PZT......
采用单质Fe、Nd、B组成的靶,用对向靶溅射系统制备出了含有Nd2Fe14B相的薄膜。发现Nd2Fe14B相能够较好地形成的基板温度范围是500℃~600℃。并且相对于热氧化硅基......
金属化、封闭技术和表面静磁场模式吸收铁氧体设计的最新进展,使石榴石和尖晶石铁氧体在微波管中得到应用,并在S波段注入式正交场......
一、引言固体半导体器件一般要求气密密封包装,其作用在于保护元件不受环境影响,并且作为半导体微观世界和电子系统宏观世界之间......
本文叙述有关锌靶和100%氧气的新反应磁控溅射工艺。由于在钟罩周围采用了一种螺线管线圈提高了平行于靶表面的漏磁力线分量。在十......
梁式引线技术是一种有价值的工艺,它被特殊地用于大规模集成电路和混合(薄膜)集成电路中,以使系统的设计更为紧凑、灵活和可靠。......
本文研究了影响离子束溅射淀积非晶硅薄膜的各种因素:真空室气氛,加速电压,衬底温度,几何位置及膜后处理;提出并论证了含氢等离子......
我们利用自制的S枪溅射系统,在微晶玻璃衬底上运用磁控反应溅射技术制备掺Pd的SnO_2薄膜。S枪是一种高速低温的磁控溅射源,又称锥......
利用可控射频溅射技术生长的氮化硅作绝缘膜,制造出Al/Si_3N_4/n-GaAs 的MIS 二极管和埋沟耗尽型GaAsMISFET.溅射时不通纯氢,器件......
Ta_2O_5薄膜以其很高的化学稳定性和优良的光学性能(如折射率高,光吸收率很低等)用于薄膜电容器、光波导和太阳能电池的减反射涂......
我们在室温和600℃下用复合的二硅化钛靶在〈111〉向的裸硅片上溅射淀积了二硅化铁膜。室温下淀积的二硅化钛膜需要在900℃下进行......
本文首次应用化学反应动力学理论详细分析了直流反应磁控溅射淀积氧化物光学薄膜的成膜过程机理;解释了由反应溅射制备的氧化物薄......
本文对 Pd/W/Si(111)多层膜系统在稳定退火条件下形成硅化物作了研究.实验结果表明,富Pd组分的多层膜对WSi_x的晶化有明显的诱导作......
本文详细叙述了多层W-Si薄膜的制备技术、生长速率、热退火对薄膜性能的影响,薄膜与GaAs衬底间的界面行为等。
In this paper, th......
对WSi_xN_y薄膜的制备工艺以及N_2分压对WSi_xN_y膜的组分、结构、应力、电阻率等方面的影响作了分析研究。尝试性地对淀积完毕真空室中充N_2造成靶面氮化......
光学应用中的离子束技术离子束技术在光学工业(包括从低损耗高挡反射镜到太阳镜的类金刚石薄膜)中正起着越来越重要的作用。离子束溅......
描述采用薄膜溅射系统制作以SnO~2为主的酒敏元件。给出了对元件灵敏度、选择性、响应恢复时间、抗干扰能力及重复性等测试结果,并以酒......
使用对向靶系统在Si(100)基片上于不同N2分压下制备CN膜样品。X射线衍射表明样品为非晶结构。用X射线光电子谱测量膜中N的含量,结果表明膜中/C随N2分压......
Current spin polarization and spin injection efficiency in ZnO-based ferromagnetic semiconductor jun
[FeNi(3 nm)/Zn1-xCoxO(3 nm)]2/ZnO(d nm)/[Zn1-xCoxO(3 nm)/Co(3 nm)]2(d=3 and 10) semiconductor junctions were prepared by......
在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点......
讨论并分析了溅射系统的污染源以及相应的防治方法,提出了几种改进措施。针对一些容易忽视的污染源,通过合理的设计,减小工艺室容积、......
一、前言 摩擦发生在相对运动的物体表面,因此材料的表面特性与运动副的摩擦学特性关系极大。根据摩擦的粘着理论:摩擦系数与材料......