铝诱导相关论文
由于化石燃料的加剧消耗和环境污染问题的加重,光伏产业成为目前发展最为迅速的一项产业。多晶硅电池作为硅基薄膜太阳能电池的种......
目的分析铝诱导法制备多晶硅薄膜层间结合力大小的影响机制。方法采用磁控溅射分别制备Al/α-Si复合薄膜以及Al2O3/α-Si复合薄膜,......
多晶硅(Poly-Si)薄膜是一种结合了晶体硅和非晶硅优点的新型功能薄膜材料，在薄膜晶体管(TFT)、微电子集成电路、薄膜太阳能电池......
铝诱导有机酸分泌是植物解铝毒的一种重要机制。与有机酸分泌有关的基因，如：苹果酸转运子基因(ALMT1)、柠檬酸转运子基因(ALCT1)、质......
多晶硅薄膜具有单晶硅材料较高电迁移率和稳定的光电性能等特性又与非晶硅薄膜一样可大面积低成本制备，因此在薄膜晶体管、微电子集......
一氧化氮(NO)作一种具有生物活性的信号分子和氧化还原分子，被证明参与了调节植物抵抗真菌、细菌和病毒等侵染以及干旱、低温、......
Al胁迫下植物根系大量分泌有机酸的可能调节因素主要包括两个方面,一是有机酸代谢:Al诱导根系细胞内有机酸合成量的增加而使其大量......
本硕士论文分析了铝诱导多晶硅薄膜制备的发展历程，对铝诱导多晶硅薄膜的制备和表征进行了具体研究。通过改进工艺条件和制备参数（衬......
在本文中,利用磁控溅射法,通过AZO及SiO_2双靶共溅射在石英玻璃表面制备AZO薄膜。在实验过程中通过功率调节,以膜厚为函数制备掺杂......
扭力的烦恼处于干燥状况对 52100 钢球完全穿 7075 铝合金的测试在一个新高精确的扭力的烦恼穿测试者上被执行。在不同尖排水量振......
通过扫描电子显微镜、X射线衍射仪和喇曼谱仪检测铝诱导非晶硅薄膜的场致固相晶化的情况,分析了电场方向对铝诱导非晶硅薄膜固相晶......
采用磁控溅射（Magnetron Sputtering,MS）方法,研究了不同的退火温度及铝的沉积温度对非晶硅薄膜晶化的影响.通过扫描电子显微镜（SEM）对......
据《Scientia Horticulturae》的一篇研究报道（http：//dx.doi.org/10. 1016/j.scienta.2016.04.021 ）,...
Using a new low-temperature process (＜600 ℃), the poly-Si TFT was fabricated by metal-induced lateral crystallization (M......
利用差异显示技术比较了水稻对铝极敏感的品种ｐｐ２４６２－１１和极抗品种Ｐｅｄｅｌ在铝胁迫条件下基因的表达差异。结果表明：抗性品种和敏感品种在铝胁迫下其......
The RAS/PI3K Pathway is Involved in the Impairment of Long-term Potentiation Induced by Acute Alumin
Objective To explore the role of RAS/PI3K pathway in the impairment of long-term potentiation(LTP) induced by acute alum......
选用Cd0.9Zn0.1Te晶体和纯度为99.999%的铝为靶材,结合Al诱导晶化技术,采用磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了CdZnTe薄膜。研究了......
非晶硅晶化的检测仪器有很多，主要有扫描电子显微镜、X射线衍射仪和喇曼谱仪．采用上述检测仪器检测铝诱导非晶硅样品的场致晶化，讨论......
应用同源序列克隆策略从铝盐胁迫处理的甜瓜属野生种（Cucumis hystrix Chakr.）叶片中获得了612bp的片段,通过在EST数据库进行同源检......
介绍了一种非晶硅薄膜低温晶化的新工艺--金属诱导非晶硅薄膜低温晶化.在非晶硅膜上蒸镀金属铝薄膜,而后于氮气保护中退火,实现了......
铝诱导层交换是指铝-非晶硅双层膜经低温退火后，铝和非晶硅层的位置发生交换，导致在原来铝层的位置处形成一完整连续的多晶硅层．这一......
采用真空热蒸发与PECVD方法,在特殊设计的"单反应室双沉积法"薄膜沉积设备中沉积a-Si:H/Al/ a-Si:H三层复合薄膜,并利用XRD,XPS及S......
多晶硅薄膜是公认的最理想的高效率,低衰减的光伏器件材料之一。铝诱导晶化法是一种在玻璃等廉价衬底上低温制备大晶粒、高结晶质......
Zinc supplementation can help maintain learning and memory function in rodents.In this study,we hypothesized that zinc s......
5-1ipoxygenase expression in a brain damage model induced by chronic oral administration of aluminum
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本文以超白玻璃为衬底，利用热丝化学气相沉积和磁控溅射法制备了Glass／nc-Si／A1的叠层结构，然后置于管式退火炉中在H2气氛下进行5h诱导......
利用磁控溅射技术在石墨衬底上制备了石墨/a-Si/Al和石墨/Al/a-Si叠层结构,采用常规退火（CTA）和快速热退火（RTA）对样品进行退火,系统研......
为探讨其晶化过程及动力学机理,本文采用磁控溅射技术制备Al/Si薄膜,并利用快速光热退火制备微晶硅。通过采用不同的衬底温度及对......
采用射频磁控溅射镀膜系统,在玻璃衬底上制备了非晶硅(α-Si)/铝(Al)复合薄膜,结合氮气(N2)气氛中低温快速光热退火制备了纳米晶硅......
CdZnTe薄膜材料具有原子序数较大、电阻率较高（可达109Ω·cm甚至更高）和禁带宽度较大等优点，可应用于天文、医学和太阳能等诸多领域......
金属诱导晶化法(Metal Induced Crystallization:MIC)是一种极具应用前景的在普通玻璃衬底上制备高质量多晶硅的方法。其中,铝元素......
