光刻分辨力相关论文
文章在简述光瞳滤波技术原理与滤波器设计的基础上,详细分析研究了影响滤波成像光刻图形质量的因素,指出影响图形质量因素主要有滤......
详细研究了离轴掩模的原理 ,将离轴照明 (OAI)与相移掩模 (PSM)技术结合起来 ,在掩模上同时实现两种功能 ,较大程度地提高了光刻分......
本文介绍我们把相移掩模光刻技术和准分子激光光刻技术结合起来进行的进一步提高光刻分辨力,扩展光学光刻极限的研究.包括Levenson......
研究了在相移掩模下利用偏振光照明的分辨力极限。结果表明利用光的偏振特性可以进一步提高光刻分辨力。......
该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和......
针对衍射限成像光刻系统成像特性，提出用共轭滤波的方法，通过滤波使低频部分减小,提高光刻分辨力。结果表明，光瞳滤波能进一步提高光......
针对环形照明引起的光刻图形对比度低的缺点，研究光瞳滤波原理，设计并制作出滤波器。结果表明，在环形照明下采用滤波方法，能进一步提高......
随着现代微电子技术向高集成度超微细化方向发展 ,为提高制作微细图形的光刻设备所能达到的光刻分辨力水平 ,在设备不更新的情况下......
介绍了提高193 nm光刻分辨力的方法,如浸入式光刻技术、相位移技术等.并介绍了193 nm浸入式光刻机的优点和前景.......
详细研究了离轴掩模的原理，将离轴照明（OAI）与相移掩模（PSM）技术结构起来，在掩模上同时实现两种功能。较大程度地提高了光刻分辨力。实验......
