压印光刻相关论文
金属纳米材料由于其纳米级尺寸而具有很多独特的物化特性,从而引起了众多科研人员的广泛关注。金属纳米粒子已经在很多领域得到广......
针对分步式压印光刻工艺超高精度对准及空间位姿调整要求,论述了一套由弹簧导轨承片台结构、驱动器及激光干涉仪构成的超高精度对......
概述了纳米压印光刻的原理,以及纳米压印光刻工艺中模版与基片的平行度对压印质量的影响,分析了国内外几种纳米压印光刻工作台的结......
针对分步压印光刻工艺中多层套刻的高精度对准问题,提出一种应用斜纹结构光栅副实现x、y、θ三自由度自动对准的方法.光栅副分为4......
从理论上建立了压印光刻工艺中留膜厚度与压印力的关系,为压印预设曲线的建立提供了理论依据.基于液态光敏抗蚀剂在紫外光照射下发......
针对高速旋涂造成标记区阻蚀胶薄膜覆盖不对称和压印曝光造成标记区薄膜聚合的问题，利用压印光刻压印曝光固化脱模的工艺原理，提出了......
针对压印光刻工艺实现图章保真复型对阻蚀胶薄膜的均匀度和应力分布的要求，对匀胶过程中的时间、转速和加速度等参数进行了分析，并采......
为了提高压印机在压印光刻工艺中的套刻对准精度，提出了采用因子分析方法来选取压印机热误差模型中的温度变量，根据变量之间的相关性......
由于硅橡胶具有良好的自适应性和优异的脱模性，所以选取硅橡胶作为模具材料，并确定使用硅橡胶加石英硬衬作为压印光刻工艺的模具．分析......
由于传统的光刻生产工艺有透镜光学极限性,压印光刻为集成电路的生产提供了一种新思路.在压印光刻中,模具的制造是重点.为了获得高......
为了满足压印光刻中套刻对准精度的要求，提出了一种基于光闸莫尔原理的粗精两步对准方法。设计了粗精两种对准标记，十字标记作为粗对......
采用傅里叶光学的方法,分析了冷压印光刻中新型斜纹光栅对准标记的透光特性.分析表明,对准信号与光栅副相对位移之间是正弦变化关......
压印光刻工艺中,为了实现高质量的压印复型,必须能够理解和预测压印载荷作用下光刻胶的流变填充行为。根据实际采用的光刻胶的特性......
发光二极管（LED）可以通过采用压印光刻的光子晶体提高效率。为了改进光提取和光束形状，很多LED制造商正在开发光子晶体LED。其挑战主......
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正．实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记．利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正，其准确......
在压印光刻工艺中,针对压印机由于温度变化而引起的热误差,通过建立压印机压印轴有限元分析模型,对其温度分布进行了仿真计算.采用......
为满足多层冷压印光刻中套刻的超高精度要求,提出了基于斜纹结构光栅的对正技术.利用光电接收器件阵列组合接收光栅产生莫尔条纹的......
纳米压印光刻经学术和行业团体近十年的研究之后，已逐渐开始对半导体行业产生引导作用。简单地讲，纳米压印是把一个1×的模板压......
文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术--纳米压印光刻技术.并概述了其应用,同时介绍了其在现阶段的发展状况.......
冷压印光刻工艺是一种将模板图形翻制到硅片上的技术.为了获得高分辨率压印图形,为压印光刻机设计了一个精密定位工作台.精密定位......
从模具材料研究模具制作工艺问题,通过实验研究,对比分析了有机玻璃模具和硅橡胶模具制作工艺.实验表明,可以复制出特征尺寸为0.35......
本文以用于纳米压印光刻技术的精密定位工作台的开发为目标,深入系统地研究了一种具有3平动自由度的空间柔性并联定位机构的创新结......
针对精密柔性工作台多自由度高精度运动的需求,设计了一种采用柔性并联构型和压电陶瓷驱动的三自由度定位平台,通过建立的伪刚体模......
为提高纳米压印工艺的图形质量，在抗蚀剂涂铺之前，对硅基材料进行氧离子轰击表面改性，有效增强硅基材料对抗蚀剂的亲和性；采用PDMS软模......
在综合分析了多种线性及非线性畸变后,建立了三次多项式图像系统畸变模型。采用基于控制点偏差目标函数最小优化法进行畸变模型的......
纳米压印光刻技术是应用于半导体芯片制造方法中最具有应用前景的技术之一，具有成本低，生产效率高的优点。围绕纳米压印光刻技术的研......
针对目前微电子机械系统(MEMS)制造中存在的三维加工能力不足的问题,将压印光刻技术和分层制造原理相结合,研究了三维MEMS制造的新......
