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光刻胶、掩膜版和光刻机一直以来是构成光刻的三要素,掩膜版的技术水平直接影响着半导体光刻技术的发展,而目前几乎所有平板显示器......
激光图形发生器是半导体掩膜制版的主要设备之一,它具有精度高、结构复杂、操作简单和生产效率高等特点,但是,其光栏精度对加工的......
为提高激光图形发生器的线条制作精度和制作效率,设计了新的调焦系统.调焦采用光学离轴探测原理,调焦辅助光源直接采用半导体激光......
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