等离子体清洗相关论文
在大型高能激光装置中,固体激光驱动器输出的激光具有高功率高密度的特点,所以对元件的负载和真空装置的洁净等级需要做出严格要求......
由于在主动热防护中所使用的吸热型碳氢燃料逐渐面临热沉不足、易结焦等问题,限制了其进一步的应用,ZSM-5是以Si、Al以及O元素为骨......
等离子体技术目前已经十分成熟,其应用前景非常广泛.等离子体清洗作为一种精密干法清洗工艺,可以有效清除材料表面的污染物,并改善......
在飞秒太瓦激光装置中，高效率的压缩光栅是获得高峰值功率飞秒激光输出的最重要光学元件之一。虽然光栅安装在无油的真空室内，但当光......
超导铌腔的碳氢污染问题导致铌表面的功函数下降,引起场致发射,使超导腔的加速梯度恶化,运行一段时间后必须对其碳氢污染进行清洗......
GaN基Ⅲ族氮化物宽禁带半导体材料是制备蓝光到紫外光波段的LED、LD等光电器件的首选材料.由于GaN基材料具有电子漂移饱和速度高、......
等离子体弧清洗是一种新型的工业清洗技术,它利用等离子弧能量将模具表面的污垢去除,达到绿色清洗的目的.文章利用ANSYS软件模拟了......
采用真空蒸镀法在硅片表面形成了一层具有表面增强拉曼活性的金岛膜。拉曼光谱发现该金岛膜表面存在非晶态碳的污染物。通过比较不......
污染碳的 beamline 光学清洗被 RF 血浆分泌物过程用 O <sub>2</sub>/Ar 学习。碳涂的样品被准备，并且通过他们的清洗进程，钥匙参数......
有一个用作等离子体室的石英管的２．４５ＧＨｚ窄缝天线微波等离子体源已用于从远距离等离子体中的玻璃基体去除有机润滑剂，有选择地用一个无距离......
该发明涉及涡轮分子泵叶片表面处理技术领域，特别是一种耐腐涡轮分子泵叶片的等离子体处理方法，包括如下步骤：（1）等离子体清洗：将叶片放......
研究了气压对双射频氩氧混合等离子体电子温度和电子密度的影响。在13.56MHz低频功率和94.92MHz高频功率固定为60W和氩氧气体比为1......
同步辐射光束线的光学元件的碳污染问题。它导致光学系统的光通量下降,尤其是在碳吸收边情况更加严重。因此在光束线运行一定的时......
等离子体清洗经常使用在材料处理和半导体工业上，虽然等离子体也可以快速地消灭细菌，但由于它们都处于高温状态，所以一直无法应用到生......
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随着微电子技术及工艺的飞速发展,湿法清洗技术越来越暴露出其一定的局限性。然而,干法清洗技术不但能够避免湿法清洗带来的环境污......
低温等离子体作为材料表面改性技术的应用已经非常广泛,其中一项重要应用是作为一种干法清洗技术有效清除材料表面的有机污染物及......
采用连续CO2激光和真空等离子体相结合的方法对石英基片进行清洗。通过光学显微图、水接触角、透过率和损伤阈值测量分别表征了CO2......
随着微电子工艺的发展,湿法清洗越来越局限,而干法清洗能够避免湿法清洗带来的环境污染,同时生产率也大大提高。等离子体清洗在干......
采用不同等离子体清洗工艺对镁基金属样品进行清洗,随后磁控溅射沉积纯Cr镀层。利用SEM、划痕仪分析了不同等离子体清洗工艺下镁基......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
在生产T/R组件时,低温共烧陶瓷(LTCC)的大面积焊接常常遇到钎透率偏低的情况。由于焊接面和焊片上存在污染和氧化层,因而焊接面和......
<正>北京七星华创电子股份有限公司微电子设备分公司(前身为北京建中机器厂)致力于半导体、集成电路设备的研究已有四十余年的历史......
以西门子S7-200PLC和TP170B触摸屏为主要控制元件,实现自动等离子体清洗系统的综合控制和管理。本文详细的阐述了此系统的硬件组成......
本文介绍了干法清洗中发展较快、优势明显的等离子体清洗的机理、类型、工艺特点等。并根据在低气压下由直流辉光放电产生等离子体......
用低温等离子体进行表面处理已经引起了很多关注。等离子体清洗对样品表面的污染的处理可以应用在很多方面,如金属、塑料、玻璃以......
GaN基Ⅲ族氮化物宽禁带半导体材料是制备蓝光到紫外光波段的LED、LD等光电器件的首选材料。由于GaN基材料具有电子漂移饱和速度高......
大功率半导体激光器具有体积小、重量轻、结构简单、价格低廉、工作寿命长、可直接调控等一系列优点,近年来受到广泛的关注及应用......
主要介绍了等离子体清洗技术的清洗原理、清洗类型、清洗设备及清洗特点，分析了等离子体清洗技术的发展现状，着重介绍了等离子体清洗......
