反应室相关论文
碳化硅（SiC）是制作高温、高频、大功率电子器件的理想电子材料，近20年来随着外延设备和工艺技术水平不断提升，外延膜生长速率和品质逐......
本文论述了光化学气相淀积（光CVD）SiO2薄膜的原理及方法。用光CVD技术在50～200℃条件下,在Si、InSb及HgCdTe晶片上淀积了SiO2薄膜。对......
<正>一、光化学气相淀积工艺概述在集成电路的各种低温淀积技术中,光化学气相淀积(光CVD)技术.是最年轻、最有前途的.光CVD是利用......
采用脉冲ＴＥＡＣＯ２激光诱发ＳＩＨ４＋ＣＨ４等离子体化学气相反应，合成了粒度分布均匀的纳米ＳｉＣ球型陶瓷粉末，采用傅里叶红外光谱、Ｘ射线衍射、元素分析、透射电子......
本文较详细地介绍了用化学气相沉积(CVD)方法制取钨制品,如钨管、W-Re合金管、毛细管、棒材等的设备与工艺,化学气相沉积涂层金属......
针对当前磁控溅射台存在真空自动准备和手动自动切换不完善等缺点,以DV602磁控溅射台为例,对其电控系统进行了改造。设计了以PLC为......
用来制作光电子器件的(Al_(0.1)Ga_(0.9))_(0.5)In_(0.5)为直接带隙的四元合金材料,对应的发光波长为630nm,在其LP-MOCVD(low pres......
核聚变装置的工作原理和太阳有着异曲同工之妙，太阳巨大的能量来自核聚变反应。在太阳的中心，温度高达2000万摄氏度，在高温高压条件下......
<正> 一种新型的厌氧发生器——BJ-A型厌氧发生器,在解放军第3医院研制成功。经1年多临床使用,表明效果良好。 近年来,厌氧菌的培......
多用途采暖炉 专利号：ZL03254545.2 0335630.3 介绍：已获得外观设计和实用新型两项专利的多用途采暖炉，最近又获得巴黎国际......
一、选择题（每小题6分，共42分） 1. 将NH4I（s）置于密闭容器中，在一定温度下发生下列反应：......
本文研究了用于制作压阻元件的LPCVD多晶硅薄晶体结构与淀积温度,膜厚及热处理温度的关系。多晶硅薄膜的织构和晶粒度不仅与淀积温......
PECVD SiN膜在半导体器件表面钝化推广应用中,采用一种SiO-SiN双重结构形式.本文介绍了有关的试验数据、理论分析以及实际应用.
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对于硅片来说,当在其上制作出集成电路芯片以前,一面要在硅片上复盖各种物质,一面将根据需要再度分步清除。作为复盖在硅片上的物......
在双层、异型硅外延中，通常采用预通掺杂剂二步外延法。本文对掺杂剂预通过程中产生的气一固扩散进行理论及实验研究，分析了预通条件......
用于空气质量监测的氮氧化物分析仪是环境监测技术领域的高端仪器,反应室设计的质量将直接影响氮氧化物分析仪的性能。针对化学发......
1、产品及其简介rnNMC508A等离子体硅刻蚀系统是适用于8英寸集成电路生产线,面向逻辑和存储等多种电路制造的先进电感耦合等离子体......
为了适应检测大气中低浓度二氧化硫的需要,提出两个物理模型来定量分析反应室的横截面半径和内壁吸光率对反应室信噪特征的影响,计......
阐述了电液压脉冲水处理的原理,并通过实验发现,采用电液压脉冲水处理时,反应室的几何尺寸和形状对处理效果有着比较重要的影响.旋......
为了安全、方便、可靠地进行气体敏感单元气敏性能测试,设计了一套基于恒流配气方式的微气体传感器测试系统.根据道尔顿分压定律和......
<正>近年来国内已将厌氧菌培养列为检验科的常规工作,目前国内外厌氧菌分离培养普遍采用物理法(抽气换气法)或化学法(产气袋法)。......
应用强电离放电方法进行烟气脱硫,将烟气中大部分O2、N2和H2O等气体分子电离后加工成OH等活性粒子,在高温、不加吸收剂的条件下,直......
本专利设备主要用于铝合金液精炼，以去除氢气和钠。设备有一个或多个反应室，内反应室是真空的，有回转体向铝液提供气体或其它特殊材料......
日本Sysmex公司生产的SF-3000是一个技术先进,能进行多参数分析的全自动血球计数仪.它每小时能分析80个样本,显示4种不同模式.当检......
期刊
简介 阳光是一种复色光，绿叶在阳光下进行光合作用，其产物主要是淀粉和氧气。我用日光灯替代阳光，在灯箱反应室做实验，发现绿叶也能......
建立了GaN HVPE系统的流体动力学模型,研究了反应气体在反应室内的浓度场,讨论了反应室内GaCl和NH3管道空间配置对气体在衬底表面......
介绍了该设备的工作原理及主要构成,详细阐述了大型等离子体处理腔室的真空系统设计,对真空泵的选型进行了探讨,得到了不同工艺条......
广炮步甲Pheropsophus occipitalis通过防御腺体喷射化学液体并瞬时产生高温对付猎敌,其防卫方式在昆虫纲极为特别。揭示该虫防御......
IC反应器以絮状污泥接种用于处理酒糟废水,运行至第180 d时分别测定反应器第1、第2反应室颗粒污泥的VSS、产甲烷活性、胞外多聚物......
<正> 氨基氮的测定方法有多种,作者选择了范氏法,磷酸銅法甲醛滴定法,醇中羧基滴定法进行比较,并将范氏法的仪器,略予改进。一、范......
<正> 一、问题的提出由二氧化硅掩蔽扩散工作而发展成半导体平面工艺是器件生产的一大进步。但随着半导体工业的发展,对于某些器件......
设计采用了非脉冲紫外荧光技术。设计了用物理方法荧光检测硫含量的结构原理图,详细介绍了检测原理,分析影响仪器检测到的荧光数量......
采用电液压脉冲进行水处理时,反应室的几何尺寸和形状对处理效果有着比较重要的影响。报道一些实验结果,对确定反应室的几何尺寸和......
根据管式PECVD设备反应室的环形进气方式和平面进气方式建立了几何模型,并进行了三维流场数值仿真分析,然后根据仿真结果对反应室......
本文介绍了3个化学小发明。第1个是外置药桶型泡沫灭火器，它可以反复使用并可随关随停；第2个是新型启普发生器，它适用液体和液体反应......
本文论述了光化学气相淀积（光CVD）SiO2薄膜的原理及方法。用光CVD技术在50～200℃条件下,在Si、InSb及HgCdTe晶片上淀积了SiO2薄膜。对......
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由于"人类基因组计划"的成功实施,基因及其生化指标的信息量越来越大.人们也不再满足于由几个或数十个指标来了解自己的健康状况,......
吉化公司水厂的水力循环澄清池，是６０年代参照Ｓ７７１通用图设计的。由于池深较大、各部功能不匹配、动能有效利用率低、排泄不畅、水量水质变......
研究了用作薄介质栅的等离子体增强化学气相淀积（PECVD）方法低温形成的SiOxNy薄膜与其电学特性．探索该薄膜电学特性与微观组分，反应室......
