光刻物镜相关论文
为了降低紫外光刻投影物镜受环境温度稳定性引起的性能恶化（主要是焦面偏移等）,借鉴空间红外光学的无热化的研究成果,并结合投影物镜......
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节，ArF光刻投影曝光作为实现100～32 nm特征尺寸微细加工的首选技术，其中光刻物镜的光学性......
针对光刻物镜对镜片间隔调节精度高、范围大的需求，提出一种利用气体压差提供驱动力的压力双膜片轴向调节机构。并对该轴向调节机构......
极平衡作为光刻物镜的一项重要指标，受到多种误差因素综合调制，因此有必要准确区分各种误差源的独立贡献量。提出了一种标定方法，将远......
介绍 0 .35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点 ,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点......
光刻投影物镜作为光刻机的核心部件,投影物镜的发展就代表着光刻技术的发展。投影物镜发展的主要特征是视场越来越大,分辨率越来越......
线性光学系统的光学传递函数可由线扩散函数的傅里叶变换求出。研究了用电荷耦合器件测量亚微米投影光刻物镜的ＭＴＦ值的系统，用ＣＣＤ作为光电......
高精度光刻物镜是微电子光刻专用设备中的关键部件之一,不仅要求光刻物镜的精度高,还要尽可能地减小装调误差.根据193nm光刻物镜的......
针对光刻投影物镜中透镜X-Y调整机构调整量程小、调整精度高的特点,提出了一种基于柔性铰链的X-Y微动调整机构,并将其应用在光刻投......
设计了一种狭缝柔性结构的光学元件调节机构,使光学元件在具备较高调节精度的同时,保持较高的导向精度。采用弹性力学应力函数法分......
设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置,两片负透镜作为变倍组,两片正透镜作为移动补......
考虑高数值孔径(NA)投影光刻物镜视场较大、波像差分布不均匀,本文提出了一种自动优化设计方法来降低设计过程中出现的全视场最大......
光刻物镜硅片刻蚀过程中的Z5像散会使光刻物镜波像差产生严重的劣化。为了对像散进行实时补偿,提出一种Z5像散主动补偿系统。该系......
研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律,提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差,并通过该描述方法进行杂散光分析;同时利用......
为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工......
传统光学系统通常由球面或者简单非球面光学元件组成。随着光学系统应用场景不断扩展和使用要求的不断提高,传统的光学系统已经无......
设计了基于振幅型棋盘光栅的二维剪切干涉仪,用于测量大数值孔径（NA）物镜的波像差。研究了棋盘光栅剪切干涉仪的基本原理,分析了大数......
本文介绍一种光刻物镜结构型式,它具有象方远心物方近远心准衍射极限成象性能。采用本结构型式设计的光刻物镜系列,不仅在大的线视......
光刻技术是集成电路制造中的一种精密的微细加工技术,它决定着一个国家半导体产业的发展。而投影光刻物镜是光刻设备中的核心组件,......
设计了一种采用6-PSS型并联机构的光学元件精密轴向调节机构,以使光刻物镜中光学元件的调节行程达微米级,调节精度达纳米级.将6-PS......
大视场投影光刻物镜是光学系统中的一种特殊的形式,其设计加工要求高。针对研制的8英寸视场的投影光刻物镜,从光学设计要求出发,分......
以集成电路(Integration Circuit,IC)为代表的半导体技术的高速发展推动着社会的进步。随着IC的最小特征尺寸向小于30nm的方向发展......
光刻物镜制造是当前超精密光学加工领域的发展前沿,其加工精度要求达到纳米甚至亚纳米量级。围绕光刻物镜纳米精度制造、超光滑表......
根据用于光刻物镜波像差检测的剪切干涉原理,为了满足可见光原理样机对球面波的需求,设计了一种具有大行程、高精度、可自锁等优点......
介绍工作波长为193am的投影光刻物镜的研制，时结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑，提出投影光刻物镜结构设计......
针对压电陶瓷在光刻机投影物镜中作为像质补偿镜组促动器的特定应用要求,对一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动器的动态性能......
