无掩模光刻相关论文
随着电子与光电子信息器件的集成度的提高,集成电路工艺的加工精度也不断提升。光刻技术作为半导体器件及集成电路制造过程中的关......
随着生物医学技术的发展,单细胞水平的个性化诊断和治疗在医学领域变得越来越重要。作为最强大的工具之一,微流控芯片已显示出与细......
氧化铟锡(ITO)导电膜具有电阻率低、透光性好、耐高温等优点,在光电领域具有重要应用。现有加工方法得到的ITO电极尺寸一般为10~20......
针对数字投影光刻技术大面积图形曝光的需求,提出了一种基于灰度模板调制的图形拼接方法,包括图形分割、模板设计、子图形灰度调制......
基于标量理论计算了三阶任意宽度的台阶光栅的衍射效率,发现当台阶宽度相等时光栅的衍射效率最高.采用基于严格耦合波的仿真软件分......
微流控芯片目前是微全化学分析系统应用研究中最活跃的领域与发展前沿,它已成为目前微／纳机电系统研究中的热点。随着面向微纳米颗......
随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。介绍了一种基于......
描述了波带片/多孔透镜阵列无掩模光刻方法,着重介绍了波带片的几何结构特点和衍射聚焦特性,研究了影响光刻分辨率的因素和使用位......
介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题，并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明，扫描电子柬光刻具有极高的......
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介绍了一种多光束无掩模光刻系统,该系统利用空间光调制器数字微反射镜（DMD）对405 nm的激光光束进行调制,控制波带片阵列及纳米透镜......
光刻是微纳制造的关键技术,制约着微光学元件加工技术的发展。本文针对DMD无掩模光刻质量问题,在研究数字光刻原理的基础上,从掩模......
为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工......
干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体，是国家自然科学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题，对其进行......
液晶显示作为当前主流的显示器件,已经在航空航天、家用电器、通讯设备等等领域得到越来越广泛的应用,和人们的生活息息相关,密不......
学位
从特征尺寸不断缩小变化的角度阐述了近代光刻技术发展的历程。指出90nm节点的主流光刻技术是193nmArF光刻;193nm浸入式光刻技术作......
集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率......
光刻是微纳加工的核心技术之一,从其发展历史看,先后经历了从接近/接触式光刻到分步投影光刻再到扫描投影光刻。掩模成本在整个光......
光刻技术是集成电路制造的核心技术,它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小,同时掩模板的成本和制作周期大幅增加,导致光......
利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具......
基于数字微反镜(DMD)的无掩模数字光刻系统可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,有着广泛的应用前景。但理论和实验均发现......
氧化铟锡(ITO)导电膜具有电阻率低、透光性好、耐高温等优点,在光电领域具有重要应用。在实际应用中,ITO常需被加工成各种形状的电......
本论文首先在无掩模激光干涉光刻的理论基础之上,编写了模拟程序,对无掩模干涉光刻技术开展了计算机模拟研究,并得到了双光束、三......
随着微电子学、微光学、微机械技术的迅猛发展,微细加工技术也得到了不断的提高和改进。微光学元件也在现在通讯、军事应用、空间......
基于孔阵列的金属网格各单元之间相互耦合,金属中自由电子与入射电磁波发生共振,形成增强透射,共振波长由结构尺寸决定,因此基于孔......
随着器件特征尺寸的继续缩小，所需掩模的成本呈直线上升态势，为降低掩模成本，无掩模光刻技术成为人们研究的热点。介绍了一种基于DMD......
传统的两层棱镜膜对于MiniLED背光的增亮效果不明显,因此设计了一种微结构薄膜来代替两层棱镜膜。首先,根据MiniLED背光的配光曲线......
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