全息光刻相关论文
作为X射线波段的一种重要色散元件,金透射光栅主要用于激光惯性约束核聚变（ICF）实验中的等离子体诊断,以及X射线天体物理研究的高能......
由于在超高密度磁存储技术、磁阻传感器、磁随机存储器等诸多方面有着广泛的应用前景,微米、纳米磁性单元阵列最近吸引了越来越多......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在(100)硅片上制作母光栅尺, 并以......
基于严格耦合波分析,研究凸面闪耀光栅的衍射特性;采用全息光刻-离子束刻蚀法制作中心周期为2.45μm、曲率半径为51.64 mm、口径为......
凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小，制作工艺难度大，其衍射效率与理论值有......
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40 eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅，即300，600和1200 ......
光子晶体、量子光学、超快光学与微纳光学的发展,使得操控光子的发射与传输特性成为可能。综述了具有复折射率周期性调制的共振吸......
基于Ga As衬底采用全息光刻和湿法刻蚀技术制备周期孔阵图形。得出全息光刻双曝光最优曝光时间为60 s。采用H3PO4∶H202∶H2O=1∶1......
实验优化设计了808 nm分布反馈(DFB)半导体激光器的二级布拉格光栅结构,介绍了808 nm DFB半导体激光器光栅制备的工艺过程。采用全......
◆摘 要：本文對全息光刻技术进行简单介绍，并对影响全息光刻图形质量的印象因素进行了分析。 ◆关键词：全息光刻;影响;分辨率;图形......
光子晶体是近年来发展起来的一种新型材料，由于其全新的控制光子的物理特性，即“光子禁带”和“光子局域”的特性，它在光通信及光集成......
在过去的20年中,光子晶体被应用于许多光子学领域诸如低阈值激光器,低损耗光波导,片上集成光路和光纤系统。光子晶体的应用需要解......
全息离子束刻蚀衍射光栅是通过全息光刻制作出光刻胶光栅掩模和离子束刻蚀将其转移到光栅基底上而制成,它集中了机械刻蚀光栅的高......
在信息光子学的发展过程中,微纳光子结构因其独特的光波调控特性,已经成为当今国内外研究的热点,在物理、材料等众多领域引起了广......
本论文利用超高真空化学气相沉积(UHV-CVD)设备，系统地研究了外延生长条件对Si基Ge量子点特性的影响。以自组装S-K(Stranski-Krasta......
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步......
金透射光栅广泛用于真空紫外、X射线、物质波的衍射和光谱测量.分别介绍了美国麻省理工学院空间微结构实验室和中国科学技术大学国......
采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺,在熔石英基片上成功地刻蚀出200 l /mm、线空比4:6、槽深70 nm、刻划面积60×20......
本文介绍了一种激光数码全息在DVD光盘产业中的应用.包括数码全息图像设计、母版光刻、金属模版制作,注塑模加工和DVD全息图像注塑......
激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中,基底材料具有高反射率,由于垂直驻波的影响,光刻胶浮雕图形侧壁产生"束腰",本文将O2反应离......
设计搭建了一套基于DMD（Digital Micro-mirror Derice）的全息光刻系统,它包括光路和软件部分。在软件设计中,采用MATLAB语言编制基于......
本文概述了光刻技术的广泛应用并探讨其今后的发展方向,分析比较了几种常见立体光刻技术的优缺点,重点介绍了全息光刻技术在制备光......
在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺.紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成......
介绍了一种新型的光刻系统-全内反射全息光刻系统.着重讨论了设计该系统时的几个重要因素,给出了用该系统开展的实验研究结果.......
使用矩阵转换方法，对全息光刻中全息掩模衍射效率进行了数值模拟计算，讨论了记录介质显影前后特性的改变和再现时全息掩模复位精度对......
针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1 m Seya-Namioka 单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200 lp/mm Lami......
亚波长光栅独特的衍射特性使其被广泛应用于各种光学系统中。尤其近年来,亚波长光栅在垂直腔面发射激光器（VCSEL）中的应用日益受到关......
采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4......
在光栅的制作中有两种方法:其中一个是湿法,另外一个是干法。本文分别就湿法和干法的实验结果,进行比较。用于法刻蚀方法做出了比......
成功制备出室温激射波长为2μm的GaSb基侧向耦合分布反馈量子阱激光器.采用全息曝光及电感耦合等离子体刻蚀技术制备二阶布拉格光......
作为一种新型的透射光栅,自支撑闪耀透射光栅集中了透射和反射光栅的优点,同时避免它们的缺点,在激光惯性约束核聚变(ICF)、 X射线......
超环面全息光栅作为分光器件同时兼具色散、聚焦成像、校正像差、无鬼线、低杂散光等特性,自发明以来一直在极紫外和软X射线波段高......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
针对等离子体诊断及空间环境探测等领域对软X射线透射光栅的需要,采用全息光刻和微电镀技术制作了自支撑软X射线金透射光栅。在基......
针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分......
通过耦合波理论分析,使用矩阵转换方法,对全息光刻中全息掩模衍射效率进行数值模拟计算,得出了影响全息掩模衍射特性的因素主要是......
利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43......
近年来侧面光栅耦合分布反馈半导体激光器(LC-DFB),在单纵模半导体激光器研究中显示了独特优势,受到国内外研究者的广泛关注。通过......
采用全息光刻和湿法腐蚀光栅技术,成功制备了表面二阶金属光栅宽条型分布反馈(DFB)半导体激光器,无需二次外延生长过程,实现了宽接......
光子晶体是近年来人们提出的一种由人工制备而获得的光子结构,因为其特殊的光子带隙特征可以对光波进行调控而被称为“光半导体”,......
阶梯光栅一般是指具有90°顶角的三角形槽型的闪耀光栅,通常有小阶梯光栅与中阶梯光栅之分。区别于中阶梯光栅,小阶梯光栅线密度较......
2~5μm红外波段拥有两个“大气窗口”,分别为2~2.5μm波段与3.5~5μm波段。在此波段内的激光由于具有较低的散射与吸收,因而在空间......
内置布拉格(Bragg)光栅的高功率808nm分布反馈(Distributed Feedback,DFB)半导体激光器(DFB-LD)作为Nd:YAG固体激光器理想的泵浦源......
利用全息光刻开展了808 nm腔面光栅半导体激光器腔面膜系制备,制备与表征了单管芯器件,单管芯器件条宽100μm,腔长2 mm,输出中心波......
