硅刻蚀相关论文
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
以SF6／C2H4为刻蚀气体，使用Corial200IL感应耦合等离子体（ICP）刻蚀系统，进行Si等离子刻蚀技术研究。通过调节刻蚀气体SF6与侧壁钝化保护......
针对硅微加工中的刻蚀工艺模拟应用,提出了一种基于点元网格和单位法向量的三维表面演化算法.在形成的连续曲面上,以高斯积分法得......
利用离子束刻蚀（IBE）和反应离子刻蚀（RIE）等干法刻蚀方法来制造带栅极的场发射阴极阵列。本文描述了其制作的流程工艺，并对制作中的一些......
用CFD-ACE＋和CFD-TOPO分别对容性耦合等离子体反应腔室放电和等离子硅刻蚀过程进行仿真,讨论不同射频电压和腔室条件对等离子体特性......
概述了电子器件中的各种硅刻蚀技术，提出了新的旋转喷射硅腐蚀方案，对2种酸腐蚀挖槽方法进行了试验对比。新方法应用于集成门极换相......
XeF2是一种可以在常温下与硅发生反应的气体，可用作对硅进行干法刻蚀的工作气体，其对硅刻蚀特性呈现各向同性．研制了一个使用脉冲法对......
针对在普通实验室和医院实现40—100keVX射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基......
