离子轰击相关论文
本文利用卢瑟福背散射及沟道（ＲＢＳ／Ｃ）技术，二次离子质谱（ＳＩＭＳ）技术等研究了ＭｅＶＳｉ离子束轰击对ＢＦ２注入Ｓｉ样品特性的影响．结果表明，退火后在ＢＦ２注入形成的ＰＮ结结区内仍......
据说最近发展了一种精密加工光学表面的方法,比普通方法迅速,成本也低。这种新方法称为离子束成形法,是由美帝科耳斯门(Kollsman)......
“氢氦锂铍硼，碳氮氧氟氖……”当你背诵化学元素周期表的时候，我不得不告诉你，在不远的将来，很可能你要多记忆一个了——117号元素。2......
利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛(TiO_2)薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处......
在广阔的能区内（从MeV到GeV）系统地研究了荷能离子轰击固态材料形成孤立损伤的形态及其形成机理。分别利用具有原子分辨能力的扫描隧......
铁基纳米晶合金具有优异的软磁性能得到广泛应用。通过对非晶合金晶化工艺的调控是实现对纳米晶材料微观结构和性能调控的基础。热......
极端服役条件的出现对涡轮喷气发动机压气机叶片防护涂层提出了越来越高的性能要求,具备厚且韧,同时满足结合力高且耐磨性好的硬质......
过去的几十年里，工业化飞速发展使人类对传统化学能源过渡性耗竭并伴随产生日益严重的环境污染问题。而太阳能技术凭借着可以将清洁......
铁基纳米晶材料因优异的软磁性能而得以广泛应用，但其性能取决于其微观结构，因此对非晶合金晶化过程的控制是实现对纳米晶材料微观结......
本文利用低温离子-乙炔气体硬化处理技术对AISI316L奥氏体不锈钢进行低温硬化处理,研究了硬化处理后硬化层的厚度、表面硬度、硬度......
粉末冶金是冶金学的一个重要分支，而烧结工艺则是影响粉末产品质量的一个关键环节。随着工业技术的不断发展，对粉末冶金产品的质量和......
六方氮化硼(hBN)是重要的宽禁带半导体材料，禁带宽度>6eV。由于六方氮化硼具有宽禁带、耐高温、热导率高、热膨胀系数小以及化学稳......
利用多功能离子束增强沉积设备，采用三种不同工艺方法制备TiN薄膜，并对制备的TiN薄膜进行了AES，XPS，XRD，RBS和TEM等分析。结果表明：所制......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
溅射是一个物理气相沉积(PVD)的过程.在这一过程中,被高压电加速的气体离子轰击目标靶,将目标靶的物质转移到工件上.入射离子轰击......
在 0 .6keVAr+高剂量 (～ 10 2 2 /cm2 )辐照石墨表面 ,借助于高分辨透射电子显微镜 (HRTEM ) ,发现有六方金刚石纳米晶产生 .它们的......
在双层辉光离子渗金属中 ,由于高能量的离子轰击 ,在金属表面以下一定深度产生高的空位浓度、位错密度和空位浓度梯度 .根据空位机......
为提高表面性能 ,对 TC11钛合金进行了离子轰击表面处理 ,运用金相显微镜、扫描电镜和 X射线衍射仪分析了表面改性层的组织结构 ,......
研究了双层辉光离子钨钼共渗在离子轰击条件下形成渗层和无离子轰击时形成沉积层的表观过程 .结果表明 ,在形成沉积层时 ,由于离子......
用CH4,H2和NH3作为反应气体,利用等离子体增强热丝化学汽相沉积制备出准直碳纳米管,并用扫描电子显微镜研究了不同负偏压对准直碳......
运用扫描电子显微镜(SEM)及氘的定量深度分布测量,系统地研究了在氘离子轰击下金属钨和钼的损伤情况, 特别是钨表面气泡的形成及机......
在场致发射器件中,发射电流通常会随着工作时间的增加而跌落.发射电流跌落的机理较为复杂.本文模拟分析了一次电子从场致发射发射......
用CH4、NH3和H2为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si衬底上制备了碳尖端.利用原子力显微镜和显微Ra......
利用扫描电子显微镜和原子力显微镜对负衬底偏压增强金刚石核化的过程进行了分析，从理论上探索了负衬底偏压作用下离子的轰击效应增......
综述了低温制备α-Al2O3涂层研究进展,指出实现低温制备α-Al2O3涂层需解决的关键问题是离子轰击以及增加形核密度,同时展望了低温......
为了改进氧化钪的分布均匀性及提高阴极表面氧化钪的扩散补充能力,作者在前期研究的基础上,分别采用液固掺杂和液液掺杂的方法制备......
探讨了空心阴极效应(Hollow Cathode Effect)、离子轰击对钛氧化层结构的影响.结果表明,离子轰击加强氧的离化、促进渗氧,有助于低......
研究了T8钢等离子体脱碳对随后渗金属的影响. 介绍了两种处理工艺, 一种是脱碳后渗金属, 另一种是直接渗金属. 结果表明, 在离子轰......
应用低能离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N薄膜,用场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射表征薄膜的组织结......
对TC11钛合金表面离子轰击改性层进行了研究,用金相光学显微镜分析了改性层的显微组织,用X射线衍射仪对改性层进行了相结构分析,用......
用CH4、NH3和H2为反应气体，利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si上制备了碳纳米尖端，用扫描电子显微镜、原子力显......
用CH4、NH3和H2为反应气体，利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si上制备了碳纳米尖端．用原子力显微镜表征了碳膜，结......
用设计的循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀法在U表面上镀Ti,并采用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪和湿热加速腐蚀实验,研究了其表面......
用CH4,H2和NH3为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积在沉积有碳膜的Si衬底上制备了碳纳米尖端。用原子力显微镜和微区Rama......
利用双辉等离子渗金属技术在0Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢表面制备了一层均匀、致密、呈良好冶金结合的渗锆合金层,并对1 060℃下的渗锆......
离子轰击影响场致发射器件的稳定性和工作寿命。本文以碳纳米管场发射三极管结构为例模拟了气体-电子碰撞电离产生的正离子回轰阴......
采用离子轰击辅助电子束蒸发技术制备了含有纳米石墨结构的碳膜。利用XRD、Ralnan和AFM等方法分析了碳膜的厚度、结构、相成分和形......
采用离子轰击技术对钛基ｐＨ电极进行表面处理，在其表面生成以δ相和ε相为主的组织结构。离子氮化后再引入微量氧可使渗层结构中有部分......
为了研究锆离子轰击对Zr-4合金锆耐蚀性的影响,用金属蒸汽真空弧(MEVVA)源对纯锆样品进行了1?015 至2?017 cm-2 的锆离子轰击,加速......
提出一种用复合电沉积技术制备直径大于0．5μm的无机非金属颗粒透射电镜(TEM)试样的方法，即将悬浮在电镀液中的非金属颗粒连同镀层金......
针时凹印版电镀存在的污染和高能耗，采用射频感应偶合（ICP）离子源辅助电子束沉积硬质铬耐磨层，通过控制离子源参数和加入过渡层来提高......
采用真空镀膜机中的轰击设备，在低真空度下对高密度聚乙烯（HDPE）膜进行离子轰击，通过原子力显微镜（AFM）、接触角测试仪及衰减全反射-傅里......
金属光学镀膜最早用于光学元件表面制备保护膜。光学镀膜技术和应用始于19世纪初叶。在20世纪的后50年内,光学镀膜技术得到飞速发......
金刚石核化是制备金刚石薄膜...
以Be为基体,采用磁控溅射离子镀在其上镀制Al膜,研究了离子轰击对膜基界面和Al膜微结构的影响.研究表明,在薄膜沉积初期,施加高能......
建立了包括质量效应、键合效应和轰击诱发吉布斯偏析效应的蒙特卡罗模拟程序; 并对轰击诱发吉布斯偏析效应的两大特征(表面成分梯......
在微波等离子体化学气相沉积金刚石膜时，采用负偏压使氢和硼离子轰击金刚石膜表面。发现单纯的氢离子的轰击会导致表面刻蚀，可使(001......
