XPS谱相关论文
用一种新型磁控溅射气体凝聚团簇源产生Cu-n(n是团簇原子个数)团簇束,当团簇束分别在偏压为:0,1,3,5,10kV的电场中加速后,在真空中......
合成氨工业在国民经济中占有重要地位,前人在开发新型高效合成氨用催化剂和其所涉及的理论基础、实际应用等方面,已为人类作出了巨......
运用循环伏安和阶跃电位方法研究了Ni（OH）2粉末靶直流溅射沉积的NiOxHy薄膜电致变色特性．结合实时的光透射-时间变化，发现着色后的薄膜......
采用常规固相反应法制备了不同Sr掺杂量的钙钛矿氧化物La1 -xSrxCoO3材料。测试了该材料的XRD和XPS谱 ,研究了不同热处理工艺对La1......
期刊
采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺杂Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜.用X射线光电子能谱仪对退火......
以反式２丁烯为工作气体，采用低压等离子体化学气相沉积法制备 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜。研究了在不同的 Ｈ２ 与反式２丁烯流量比下制备的 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜的......
利用射频磁控溅射法结合后退火工艺在LaAlO3 (100)衬底上制备了La0.4 Nd0.1 Sr0.5 MnO3 (LNSMO)一系列薄膜样品.通过X射线衍射仪(X......
运用循环伏安和阶跃电位方法研究了Ni（OH）2粉末靶直流溅射沉积的NiOxHy薄膜电致变色特性．结合实时的光透射-时间变化，发现着色后的薄膜......
采用射频磁控溅射技术制备了Ge-SiO2薄膜,在N2气氛下进行300℃到1000℃的退火处理30分钟,对样品进行XPS分析,研究了在不同退火温度......
SU-8光胶因具有良好的光刻性能，并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用。众多研究采用不同的光源对其进行了多种光......
采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺A(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AzO)薄膜.利用X射线光电子能谱仪和紫外,......
采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺杂Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。用X射线光电子能谱仪对退......
用一种新型磁控溅射气体凝聚团簇源产生Cu-n(n是团簇原子个数)团簇束 ,当团簇束分别在偏压为:0,1,3,5,10 kV的电场中加速后,在真空......
为研究纳米复合膜超硬机理和促进其商业应用,利用电弧离子镀制备了Ti N-Cu纳米复合膜,并对其表面形貌、晶体结构、能谱、XPS谱和硬......
用Ｘ射线电子谱（ＸＰＳ）评价了由改进的ＲＣＡ方法清洗，又经ＨＦ处理的洁净（１１１）硅片在高真空和超高真空中加低热时的表面状态，实验表明，清洗后的硅片表面沾污中......
采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆（YSZ）和铝酸镧（LaAlO3）上溅射RE0.5Sr0．5CoO3-δ薄膜，测试了薄膜的XRD、XPS谱、分析了表面微结构......
采用常规固相反应法制备了不同Sr掺杂量的钙钛矿氧化物La1-xSrxCoO3材料。测试了该材料的XRD和XPS谱，研究了不同热处理工艺对Lz1-xS......
把非晶金刚石薄膜的XPS C1s谱分解为中心在284.4±0.1eV 和285.2±0.1eV的两个高斯特征峰,分别对应于碳薄膜中的sp2C和sp3......
用硫的K边X线吸收近边结构光谱(XANES)和X线光电子能谱(XPS)对阿尔贡优质煤中的有机硫进行了分析，并对许多标样化合物、它们的混合......
使用改进的常压化学气相沉积(APCVD)系统制备了非晶硅薄膜,测量了样品的光致发光特性,使用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)谱测量......
通过射频磁控溅射法在Si（100）基片上沉积了La0.9Ba0.1MnO3-δ（LBMO）薄膜，并得到在不同温度下退火后的薄膜。采用X射线衍射（XRD），扫描隧道显......
利用射频磁控溅射的方法,在不同的衬底温度和溅射功率下制备了氧化钒薄膜样品,并在纯氩气环境下作了退火处理,用X射线衍射(XRD)、X......
在不同氧分压奈件下对WO3粉末靶进行磁控溅射，在ITO导电玻璃基底上沉积得到WO3薄膜。分析发现，当氧分压O2：Ar为1：10的时，WO3薄膜的显微......
能源危机是目前人类所面临的的难题之一。核能作为新型能源的一种在解决能源危机的过程中扮演重要的角色，其中被誉为“人造小太阳”......
Mg-Si-Sn热电材料的热导率较低而电导率较高,而且热电性能优良,该材料的组成元素储量丰富且环保,是理想的中温区(400K-800K)热电材......
