光学邻近效应校正相关论文
计算光刻技术是提高分辨率的重要手段，是连接芯片设计与制造的桥梁。首先，介绍了计算光刻技术的起源即第1代光学邻近效应校正（OPC）技术......
本文介绍当前最前沿的几种分辨率增强技术的基本原理及开发应用的现状，如离轴照明，光学邻近效应校正，辅助图形和相移掩模。这些方法连......
作为推进半导体产业不断发展的核心技术，光学光刻从出现以来就在集成电路生产中扮演着重要的角色。根据2004年12月ITRS发布的光刻技......
随着集成电路纳米时代的到来，集成电路设计技术和制造技术的联系越来越紧密，不考虑工艺偏差因素的成功电路设计已经变的不可能，于是出......
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正......
介绍了国内研究光学光刻波前工程的一些成果,如新型移相掩模、投影光刻的邻近效应和掩模加工的邻近效应的组合模拟等.......
讨论了90／65nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势。介绍了以RET／OPC为核心的可制造性设计。......
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以......
提出了一种考虑光学邻近效应的详细布线算法．该算法在布线过程中，充分考虑了线网走线相对位置及布线线形对其光学邻近效应的影响，通过......
激光直写技术无需掩模、加工灵活,可制作出边缘平滑的复杂特征结构,是制作衍射微结构光学元件的重要技术手段之一。随着科学技术的......
本文基于改善光场分布的考虑，在掩模上添加了适当的散射条和抗散射条，成功地改善了像面的光场分布，达到了光学邻近效应校正的目的。......
本文从光学邻近效应的机理出发,基于区域划分掩模特征线条,实施曝光剂量控制,从而达到光学邻近效应的精细校正。通过模拟测试图形......
光学邻近效应校正(OPC)是下一代集成电路设计和生产的重要工具。其基本思想是有目的、有系统地通过对掩模形状做预失真来补偿由光......
详细地论述了相移掩模提高光刻分辨力和改善焦深的原理。介绍了光学邻近效应校正方法、改善光刻图形质量的机理及邻近效应校正掩模......
