化学增幅相关论文
从分子设计角度详细地叙述了光敏性聚酞亚胺树脂的制备方法、结构与性能的关系及所涉及到的大化学反应机理。对目前最新研究热点并......
本文简单介绍了近年来我们在光刻胶研究领域做的部分工作，主要包括：1.i-线正胶、负胶及厚膜光刻胶；2.248-nm 正胶、负胶及厚膜光刻胶；3......
通过对空心酞菁磺酸对甲氧基苯酯的光生酸性质的研究，发现该化合物可在紫外光照射下生酸.由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应......
随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。......
合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得......
本文制备了二种正性i-线光刻胶.一种由具有高的酸解活性的酯缩醛聚合物与具有光产酸特性的2,1,4-重氮萘醌磺酸酯组成二组分化学增......
文中利用双酚A和二乙烯基醚化合物进行反应得到一类新型缩醛聚合物.这些有机化合物可溶于常用的溶剂,具有很好的热稳定性.具有很好......
本文介绍了丙烯海松酸与二乙烯基醚发生加聚反应得到一种新颖的酯缩醛聚合物,在常用溶剂中具有好的溶解性,数均分子量为5700,分布......
本研究合成了以三苯胺为电子给体的苄叉烷烃酮类双光子染料，并将染料和光生酸剂组成双光子敏化产酸体系，系统的研究了染料的光化......
本文将甲基丙烯酸与乙烯基乙基醚、二氢吡喃等进行羧基保护反应，得到的酯单体进行聚合反应或与其他单体进行共聚反应，得到了一系列新......
从分子设计角度详细地叙述了光敏性聚酞亚胺树脂的制备方法、结构与性能的关系及所涉及到的大化学反应机理。对目前最新研究热点并......
综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展,特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述.并指出,通过改进感光......
本文对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了说明.介绍了化学增幅作用中的关键组分-光产酸源和酸增殖剂的发展概况.并对重......
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂--硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光......
综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展，特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述。并指出，通过改进感光高......
综述了用于化学增幅型光致抗蚀剂的光产酸剂及机理，对于几种常用的离子型和非离子型光产酸剂分别进行了阐述，并对其特性和应用做了简......
本文综述了近10年来电子束化学增幅抗蚀剂的概况、主要组成、成像反应机理及电子束抗蚀剂的发展方向.......
当今世界处于信息时代,电子信息产业日新月异地飞速发展着,计算机的影响已遍及每一个经济领域和人们生活的每一个方面.微电子技术......
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的......
以叔丁酚改性酚醛树脂与双叔丁氧碳酸酐为原料,合成了一种化学增幅感光性高分子,摸索出这类合成反应的最佳条件,进而配制出一系列......
将具有高酸解活性的酯缩醛聚合物与重氮萘醌磺酸酯配合，组成正性化学增幅型光致抗蚀剂，用于高感度化学增幅型 i-线（365 nm）光致抗蚀剂.......
近日，教育部在威海市组织并主持召开了“化学增幅型高感度阴图PS版”项目的技术鉴定会。鉴定委员会听取了工作报告、技术报告、查新......
芯片行业涉及到国民经济、国家安全的方方面面,属于战略性行业,2018年我国的芯片进口额更是高达3120多亿美元,远超石油。中兴事件......
本文综述了80年代酸分解高分子的进展,并对其作了详细分类。以其不同的结构特征阐明了它们的酸解机理。本文还对酸解高分子用于成......
聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性......
芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要......
<正> 简史 当今世界上几乎所有的高分子化合物,不管是天然的还是人工合成的,都能在强烈的光线辐射下,缓慢地或快速地发生化学变化......
光致抗蚀剂(photoresist)是制造超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路集成度的不断增加,光致抗蚀剂由g线(436nm)胶、i线......
本文按传统光化学反应型和化学增幅型两种类型对近10年水溶性光致抗蚀剂的发展状况做了分类总结。重点介绍了成像反应原理和各体系......
本文通过沉淀聚合合成了聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物,合成了光产酸......
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248......
采用常见的芳香二酸（对苯二甲酸和1,4-萘二甲酸）与1,4-二（2-乙烯氧基乙氧基）苯（1,4-DVEB）聚合,得到了2种新型的芳香酯缩醛聚合物,这些聚......
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