电子束曝光相关论文
电子束曝光技术是制备纳米精细结构的关键技术,在纳米科学研究、微纳原型器件制备、生物医学等领域具有广泛的应用。本论文以电子......
曝光工艺中经离心涂敷后抗蚀剂胶层的均匀性对曝光线宽有很大的影响.为了得到高速旋转下抗蚀剂胶体在凹面衬底上所形成膜层厚度的......
有机高分子材料具有生物亲和性、柔性、易于制备等特点,因此科学家们对此类材料的纳米结构进行了广泛地研究,有机纳米光子结构的机......
由于三维功能微纳结构可以实现平面微纳结构所无法得到的卓越光学性能,所以吸引了大量研究者对其进行兴趣。目前,基于三维光功能微......
科学研究对于纳米系统需要更灵敏的测量,如自旋电子学、量子计算,纳米磁性材料研究等,随着微米级SQUID(超导量子干涉器件)的出现以......
介绍了采用迭代角谱算法设计衍射微透镜，并利用基于标准微纳工艺的单步光刻和湿法腐蚀制作出试验性衍射微透镜的方法。对其进行表面......
本文提出了电子束重复增量扫描曝光技术新概念.文中对吸收能量密度与深度和曝光剂量之间的关系、溶解速度与吸收能量密度之间的关......
本文模拟和讨论当光学掩模在电子束曝光过程中由于电子束能量沉积所引起的光刻胶及衬底的温度变化.模拟采用6英寸的石英掩模,PMMA......
精密工件台是电子束曝光设备中的重要部件,改进精密工件台技术可以促进电子束曝光技术的进一步发展.本文以超声电机(UltrasonieMot......
本文针对正在研制的DY2001A电子束曝光机所需软件进行分析.首先介绍了任务的目的和当前现状;然后从系统研制的角度分析其构成;最后......
电子束曝光是迄今为止分辨率最高的微细加工手段之一,是生产及研制微电子器件及特种微型器件的关键性技术.文章介绍了我所最新研制......
本文在Bresenham算法的基础上,提出了一种圆生成算法及填充策略.该方法通过设置决策函数和迭代增量,判断最接近圆函数曲线的象素点......
电子束缩小投影曝光技术是制造下一代集成电路(0.1μm以下线宽)最有希望的途径之一.目前美、日等发达国家正在加紧开发这一技术,使......
为了研制硅基发光器件，我们将PbS 溶胶量子点与PMMA光刻胶混合，在硅衬底上用旋涂法制备了表面平整、质地均匀的复合PbS 量子点光刻胶......
在医疗器材、食品加工等领域,材料表面的细菌粘附常引起植入性感染或食品腐败,有时甚至会引发疾病,而控制细菌在材料表面的初始粘......
超导纳米线单光子探测器是新型超导电子器件,因其具有高探测效率、低暗计数及低时间抖动等优势,在量子信息、激光雷达等方面已得到......
利用Monte Carlo方法,本文模拟了具有Gauss分布特征的入射低能电子束斑在多元多层介质中的散射过程,得到了低能电子束在不同曝光条......
研究了光栅形貌(形状、深度、占空比等)对DFB激光器性能的影响，通过比较分析选择矩形光栅进行相关工艺的摸索。实验中采用电子......
在大气中，利用扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）在氢钝化的Ｓｉ（１１０）表面直接进行化学改性，形成了２０～６０ｎｍ的ＳｉＯ线条．通过化学腐蚀，成功地将该ｎｍ线条转移到Ｓｉ基片上．实验证明，经ＳＴＭ改性......
偏振探测是主要面向光波偏振特征的探测技术研究。相对于传统的强度探测,偏振探测着重光波的偏振特性,细致地呈现了被探测物的信息......
该课题研究由通用图形数据CIF格式到可变矩形电子束曝光机专用图形数据JEOL51格式的转换问题.论文首先综述了国内外扫描电子束曝光......
自电致变色效应第一次被报道以来,在这几十年里,电致变色效应得到了很多的研究,很多电致变色材料被陆续发现和研究,各种各样的电致......
本文主要研究了外界干扰对磷化铟多孔层的影响,利用电子束曝光技术辅助电化学刻蚀技术和激光干涉技术辅助电化学刻蚀技术,分别制备......
纳米加工技术是人类了解微观世界的工具,但加工能力往往受设备所限。碳纳米管作为一种新型纳米材料,具有很多独特的物理性质。本文......
针对氮化铝微环谐振腔实现临界耦合条件困难的问题,设计并制备了氮化铝弯曲耦合微环谐振腔。分析了微环谐振腔耦合系数公式,分别阐......
本文利用数值仿真技术对复合场中电子成像系统的像差理论做了研究。基于一种新的计算方法编写了一套完整的像差计算程序,由此可求......
亚微米尺寸金属电极在HEMT等半导体电子学器件中有重要的应用,是器件制作中的关键工艺，对器件性能有着重要影响.本文针对HEMT等半导......
纳米线条在超导单光子探测、超导隧道结等超导电子学器件中具有广泛的应用。本文基于电子束曝光，实验上在大面积范围内获得了均匀的......
利用半导体微细加工工艺,在硅片上制作出高150μm、尖端直径小于1μm的硅尖端阵列.还成功地研制了高1.5μm、尖端直径小于0.2μm的......
电子束曝光SAL-601(ER7)负性抗蚀剂主要用于凸立的精细线条图形制作,徐秋霞、刘明[1]等人已经成功地制备了线宽小于70nm的孤立线条......
综合分析激光工件台三坐标系在电子束曝光中，对芯片在工件台上移动、定位产生的误差，并对此进行了修正。......
该文介绍采和高斯束电子束曝光系统实现纳米结构图形电子束直写的关键技术－电子束邻近效应校正技术。重点介绍电子束在抗蚀剂膜层及......
纳米永磁材料,因其磁性能卓越,力学性能稳定,热稳定性高,耐腐蚀性强,近年来成为永磁材料领域炽手可热的研究热点.纳米双相耦合永磁......
期刊
太阳能是一种储量巨大的清洁可再生的能源,但是利用效率却非常低,主要来源于材料对于光的吸收率造成的限制。光合作用是自然界中最......
该文建立了一个低能电子束曝光的Monte Carlo模拟计算模型及其软件系统,对具有高斯分布束斑的低能电子在靶体PMMA-衬底中的复杂散......
电子束曝光不但具有极高的分辨率而且可以直接加工任意形状的图形，一直以来都在超大规模集成电路芯片研制和各种掩模制造中发挥不可......
随着纳米科技的迅速发展，系统的微小型化成为当代科技发展的重要方向。微机电系统(Micro electro mechanical systems，MEMS)在此趋势......
