蒸发材料相关论文
采用盐酸+氯酸钠溶解-沉淀除杂-选择性液相还原-煮洗等联合工艺制备蒸发材料用高纯金并进行应用性能分析。结果表明,溶解后的金溶......
介绍了等离子体离子辅助沉积技术，用该技术制备了高性能的中红外增透膜，给出了该增透膜的光学性能和耐久性试验结果。
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针对南光 Ｚ Ｚ Ｓ７００１／ Ｇ 箱式真空镀膜机电子枪扫描系统的缺陷， 提出一种实用的改进装置， 克服了被镀材料蒸发特性不同带来的膜厚误差， 提高了......
真空等离子高能工艺的基本原理适用于多元防护涂层的沉积,本文介绍含有涂层材料微滴多元等离子体两相流沉积涂层的组织研究结果,同......
正当全国亿万人民在毛主席为首的党中央的领导下,反击党内不肯改悔的走资派邓小平刮起的右倾翻案风的斗争中,我们向广大读者推荐这......
目前,用带有电子枪的镀膜机制造光学薄膜器件已得到广泛的应用,这是因为电流加热法所获得的温度受到蒸发源许多条件的限制,而且也......
本文提出了一种用ATR方法测定超薄膜光学常数,然后以透射率实时监控多层超薄吸收膜系厚度的方法;介绍了实验装置,分析了可能存在的......
原子力显微术(AFM)是近年来新发展的一种高清晰度的显微技术,它能显示出物体表面附近的势能分布,并根据这种分布,可以直接描绘出物......
离子镀是一种崭新的真空镀膜技术,它与真空蒸镀、真空溅镀有着本质的区别.本文介绍离子镀的机理、特点、工艺过程,各种离子镀装置,......
1.离子镀的种类及特点就蒸发材料的汽化方式而言,有电阻加热、电子束加热、高频感应加热、电弧加热蒸发、溅射等方式.就蒸发材料......
kh12M钢的真空淬火──《Metallov-ed.Term.Obrab.》1978,No.1,39-41[俄文] 确定了kh12M钢真空热处理参数:(1)淬火的真空度;(2)加......
一、前言文献〔1〕作者首先利用钛锆混合氧化物作为三层增透膜中间高折射率材料镀制增透膜,并指出,这种材料有利于形成均匀性膜,......
我于一九七五年六月在上海参加了“日本电子工业和计测仪器展览会”关于真空镀膜技术部分座谈,了解到一些日本真空镀膜技术情况。......
由柳德米娜·埃克托娃新著“薄膜物理”(PHYSICS OF THIN FILMS)一书,由捷克斯洛伐克在1977年出版的同时,纽约会议出版公司也出版......
用反应离化团束（ＲＩＣＢ）法，以低分子量聚乙烯为蒸发材料，氨气为反应气体，在ＮａＣｌ（１００）和Ｓｉ（１００）衬底上淀积Ｃ—Ｎ薄膜。透射电子衍射（ＴＥＭ）分析表明薄膜中含有β—Ｃ３Ｎ４晶粒，Ｘ射线......
薄膜厚度的ＥＤＳ测量赵家政徐洮（中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放实验室，兰州７３００００）在电镀膜、真空蒸发膜、表面处理膜、溅射膜、润滑......
四、高真空电弧放电型离子镀高真空电弧放电型离子镀是在ARE法的基础上发展起来的。它如图13那样在E型枪蒸发源附近装备了电离电......
溅射方法是指将各种蒸发材料(如磁性材料、电阻材料等)加工成靶,用氩等离子体轰击,使待蒸发材料溅射到基板、衬片等表面上形成薄......
光学涂层历来最严重的限制是光学薄膜疏松、多孔和有针状微结构。二氧化锆和二氧化硅多层膜系即是一例。膜层中的微孔和细缝使涂......
采用空心阴极离子镀方法，分别以Ｔｉ＋ Ａｌ％ 和ＴＣ４作为蒸发材料，在高速钢表面沉积ＴｉＡｌＮ多元超硬膜。结果表明，该镀膜工艺可行，制备出的ＴｉＡｌＮ膜层性能优异，即硬度......
本文探讨蒸发器类型对薄层的化学计量的影响,及相应地对涂层光学特性随时间的稳定性的影响。研究表明,蒸发器工作条件对薄层成分有......
由于对产品美观性越来越高的要求,人们想在塑料上镀上一层装饰性金属,使塑料表面美观耐磨,又经济可靠。我们用真空蒸发的方法在“......
本文介绍电子束蒸涂技术的基本原理、关键技术、目前发展水平、以及一些典型应用实例。
This article describes the basic princ......
本文提出了在ITO膜上用电子束蒸发的方法沉积了Ta_20_3膜的界面情况.结果表明:用该法制备的试样,二者之间没有明显的相互作用,不影......
本专利是关于气·湿敏传感器的制造方法的说明·也就是在电绝缘片上,形成一种由平均粒径是10～100多埃((?))的金属氧化物超细粒子组......
通过测试Au88Ge12、（Au88Ge12）99Ni1、（Au88Ge12）97Ni3、（Au88Ge12）95Ni5合金铸态、均匀化态、热加工态、加工态的硬度,加工态抗拉强度,......
