离子刻蚀相关论文
针对超精细加工的技术要求,叙述了离子加工应用技术的发展概况、各型号离子束刻蚀机的性能及使用效果,阐述了离子镀膜的基本原理与......
针对大面阵CCD成像黑缺陷多的特点,从机理和制作工艺上进行了分析研究。结果表明,CCD成像黑缺陷主要由光刻工艺缺陷引起。光刻LOCO......
基于Lam 4420反应离子刻蚀(RIE)设备和Cl2气体开发了适用于沟槽栅IGBT的深槽等离子刻蚀工艺。通过调整HBr、O2和SF6等添加气体含量......
InAs/GaSb SLs探测器台面刻蚀常用的工艺有干法刻蚀和湿法刻蚀。研究了三种等离子刻蚀气体(Cl2基,Ar基和CH4基)对超晶格的刻蚀效果......
本文详细介绍了大型金属卷材表面改性连续卷绕镀膜生产线的工作原理、结构组成、技术特点和主要创新设计要点.分析并指出影响大卷......
离子束加工技术是目前所有特种加工方法中最精密和最微细的工艺,是当代毫微米级加工技术的基础,近几年来国外在离子刻蚀、离子注......
在MEMS设计系统中，工艺仿真是整个系统的基础，能否获得精确的器件三维模型对运动性能仿真及物理级仿真具有重要意义。然而，现有的工艺......
本论文针对引信系统对高性能储能器件的迫切需求，重点开展了具有抗高过载、比容值高、体积小、发火电压低的MEMS电容器制造与应用的......
技术进步给我们带来极大便利的同时,大量电子设备的使用以及空间中弥漫的各种电磁波也使得电磁辐射污染日益严重,另外在军事上,武......
利用X射线光电子谱仪 (XPS)分析和Ar+ 刻蚀相结合的方法 ,分析了Ti膜表面的化学元素及相应原子的电子结合能。分析结果表明 :Ti膜......
从微观理论对P型HgCdTe离子刻蚀成结的过程、机理进行了分析,提出HgCdTe环孔P-N结的汞原子扩散-补偿模型、P-N结的汞原子扩散-补偿......
分析了粉粒在反应区的沉降过程，导出了沉降的最大速度及时间的公式，给出了离子在不同位置上的平均动能及粒子通量．还对高能中性粒子在......
为了更好地理解和认识刻蚀机理，并为制造工艺提供优化指导，采用三维元胞模型研究了离子刻蚀工艺的表面演化过程。针对三维元胞模型内......
以聚碳酸酯为模板,酚醛树脂为填充物,结合离子刻蚀与纳米浇筑法,制备一种新型网络状炭纳米线。制备过程中,选择多方向离子辐射的聚......
采用离子刻蚀工艺对钽酸锂晶体材料进行刻蚀加工,得到了反台面结构晶片,其厚度约为31.3μm,可用于制作高基频晶体谐振器。应用该晶......
在高密度反应离子刻蚀技术中,存在明显的线宽损失,对小尺寸MEMS结构影响很大,将使MEMS器件灵敏度下降,稳定性降低.本文介绍了一种......
Ar^＋离子刻蚀是一种表面剥离手段，剥离速度与物质性质相关，常与各类表面分析技术联合，用于对表面物质成分随深度分布进行分析。本研究......
为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小的α；CH薄膜微器件，研究了有铝和无铝掩膜、气体流量比、工作气压对刻蚀速率的影响，并对纯氧......
采用XPS对TiN-MoSx/Ti复合膜表面S被Ar+大量刻蚀后化学组成及摩擦学性能的变化机理进行了研究.长时间离子轰击后复合膜表层的化学......
用X射线光电子能谱(XPS)分析了以聚氨酯(PUR)为第一网络的PUR/环氧树酯/聚-β-丙二醇二丙烯酸酯互穿聚合物网络(PUR/EP/PPGDA IPN)......
微米和纳米尺度的图案化表面的制备在微电子、光学、生物、化学和材料科学等领域具有重要的科学意义和应用价值[1～3]. 由于需要复杂......
在制备所有的NbN超导隧道结的过程中，为了得到良好的隧道结，刻蚀是很关键的一步，我们对反应离子刻蚀（砌E）和离子刻蚀两种不同的方法进行......
以O2＋SF6为刻蚀气体,在一定压力下使用RIE刻蚀机刻蚀光刻胶。通过改变功率、O2流量和SF6流量,研究以上因素的改变对光刻胶灰化速率......
介绍了一种用于10μm小间距碲镉汞探测器铟凸点的制备工艺。新工艺有别于常规的剥离法,采用离子刻蚀手段对金属铟进行精确刻蚀,从......
本文介绍离子镀膜和离子刻蚀的扫描电镜制样方法和应用扫描电镜观察反渗透膜的微结构,试验表明离子镀膜效果比蒸发镀膜好,离子刻蚀......
研究了PET薄膜表面经氩离子刻蚀后其物理性能的变化,经氩离子刻蚀后磁控溅射沉积Al2O3薄膜表面的测试结果表明:离子刻蚀使PET基体......
从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设......
为了进一步研究刻蚀工艺机理来指导和优化刻蚀工艺,该文利用3维元胞自动机模型来实现表面演化方法,模拟等离子体刻蚀加工工艺,并着......
本文阐述了微系统的发展过程，叙述了二元光学的研究现状和二元光学的成形过程，比较了几种不同的刻蚀方法。并且详细论述离子刻蚀的原......
激光脉冲压缩器是啁啾脉冲放大系统的核心部件之一,其作用是将展宽放大后的激光压缩至超短脉冲。脉冲压缩光栅可以分为反射式和透......
描述一种新型的微通道板,即先进技术微通道板(AT-MCP)。指出目前还原铅硅玻璃微通道板(RLSG-MCP)所存在的缺点,同时对二者进行了比......
本文综述了国外等离子体刻蚀技术的发展概况,对等离子体刻蚀的基本原理和反应动力学的问题作了比较详细的介绍和论述,对设备的设计......
聚甲基丙烯酸甲酯（Poly（methyl methacrylate），PMMA）具有优良的光学性能、容易加工、成本较低等特点，是最常用的光学塑料之一。理想的单......
石英晶振是利用晶体的压电效应制成的一种晶体振荡器。因为它具有高稳定性、高精度和低功耗等特点,被广泛应用于各种电器产品中。......
本文扼要地介绍了目前在制造全息闪耀光栅中普遍使用的三种方法——付里叶合成法，驻波珐、离子刻蚀法，并介绍了测定光栅衍射效率的方......
本文采用氩及其他气体等离子体对纤维刻蚀,并运用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察刻蚀结果。着重对等离子体刻蚀法应用于纤维鉴......
基于扫描电镜搭建的表征技术与分析方法集约研究平台,针对钕钇共掺氧化锆陶瓷开展了相变微结构的系统性定量研究。在推进抛光、成......
