磁控溅射沉积相关论文
硅具有高达约4200 mAh g-1的储锂比容量,远高于商业化应用的石墨电极(372 m Ah g-1),因此受到极大的关注。然而,硅电极在锂化和脱......
现如今光纤激光器发展迅速,其应用遍布材料加工、医疗、精密测量和光通信等领域。这种光源的灵活性、可靠性和紧凑性使其在许多方......
本项目依据生物仿生学原理,构建类贝壳珍珠层结构的仿生多层膜,解决影响生物陶瓷涂层脆性大、厚度小、残余应力大、难以实际应用的......
本文探讨了薄膜太阳电池对TCO玻璃的性能要求,比较了新一代AZO玻璃和传统FTO玻璃的优缺点。研究结果表明,通过磁控溅射方法沉积的A......
在大功率栅控脉冲行波管中，由于较大栅放而影响产品质量时有发生，采用栅网表面涂覆铪膜是解决栅放问题的有效途径。本文采用磁控溅射......
采用射频反应磁控溅射法在(111)单晶Si基体上沉积ZrN扩散阻挡层，随后在其上分别用直流脉冲平衡磁控溅射(BMS)和非平衡磁控溅射(UBMS......
采用磁控溅射技术制备了MoS_2,Ti/MoS_2,Pb/MoS_2和Pb-Ti/MoS_2复合薄膜.通过AFM,SEM和XRD对薄膜的形貌和结构进行分析;利用纳米压......
大连理工大学“材料表面工程”学科博士学位授予点,是在学科目录之外,国务院学位委员会批准的我国第一个“材料表面工程”博士培养......
报道透明导电膜不加衬底温度、无需沉积后的退火工艺、用射频磁控溅射沉积氧化铟、锡（ＩＴＯ）薄膜获得电阻率３×１０－４Ω·ｃｍ，在可见光区平均透光率８４％的......
离子束、电子束和磁控溅射沉积相结合技术是材料表面改性的一项新技术。采用该技术对制盐化工厂盐浆泵叶轮进行了表面涂覆处理,经......
研究了ＩＣ６合金ＮｉＣｒＡｌＸ（Ｘ＝Ｙ或Ｙ＋Ｓｉ）涂层在１１００℃室温周期氧化过程中结构和成分的变化，讨论了结构、成分变化对涂层抗氧化性能的影响
The structure and ......
金属与Ge材料接触时界面处存在着强烈的费米钉扎效应,尤其与n型Ge形成的欧姆接触的比接触电阻率高,是制约Si基Ge器件性能的关键因......
据 2 0 0 2年超导周刊报导 ,日本富士公司一个研究小组用 3段化学气相沉积技术 (CVD)在没织构的轧制银带上制做出具有 3× 10 4A/ ......
超快脉冲激光技术在很多领域都有着广泛的应用,包括医学成像、空间测距、眼科学、太赫兹光谱、材料微加工、精密计量。与传统的固......
磁控溅射沉积获得的非晶态WO3膜在空气中分别加热200℃，250℃，300℃，350℃及400℃，并保温30min进行热处理。随着热处理温度的提高，非晶......
基片温度低于溅射外延条件 ,采用低溅射功率密度磁控溅射沉积 ,进行后期热处理结晶化 ,制备出膜厚为 30 0 nm的掺铈钇铁石榴石 Ce......
本文分别利用磁控溅射沉积、溶胶-凝胶浸涂及旋涂等方法在氧铟锡(indium tin oxide,ITO)导电玻璃上得到籽晶层,然后通过低温水热法......
TiAlN薄膜是一种有可能作为喷墨打印头中传统的TaN或TaAl发热电阻的替代品。采用TiN和AlN作靶材,在400°C下用射频磁控溅射共沉积......
为了研究薄膜厚度对Ti-Cr合金薄膜局域结构的影响,通过磁控溅射沉积技术制备了不同厚度的Ti-Cr合金薄膜试样,合金薄膜中Ti和Cr的含......
采用磁控溅射技术制备了不同Ti含量的Mo S2/Ti复合薄膜,利用SEM、AFM、纳米压痕仪、XRD和CSM摩擦试验机分析了复合薄膜的结构、力......
阜阳市局 ￡4a 局长——_MINtkMMtgj’＃lnH＄B——q.M——D收束志不他只邀狲位J则【科校为先导推动地租工作.B为广为戳民U用凶盼引眯B.......
研究以射频磁控溅射法在Ｓｉ衬底上沉积ＳｉＯ２膜．这一方法避免了高温氧化法对器件性能的损害．在结构和物理性能上对ＳｉＯ２进行了多方面的测试和分析．结......
用离子束辅助沉积技术（IonBeamAssistedDeposition，IBAD）制成CNx／NbN纳米多层膜．研究了工艺参数（轰击能量，基片温度）对股的结构和性能的影......
在Ｉｎ－Ｓｎ合金靶反应磁控溅射的情形下，固定基片温度、氧分压、抽速和其它相关条件，仅靠改变溅射电流来沉积一定方阻的ＩＴＯ膜。实验表明：随着工艺......
薄膜技术９９０８００１ 提高金刚石膜与硬质合金结合强度的新方法——ＬｅｅＤ Ｇ．Ｓｕｒｆａｃｅ＆ＣｏａｔｉｎｇｓＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，１９９８，１００～１０１（１～３）∶１８７（英文）在硬质合金上沉积金刚石膜，由于二者热膨胀系数失配，使金刚石膜内应......
本文通过利用射频磁控溅射方法，选择和控制沉积薄膜工艺参数，在石英（ｑｕａｒｔｚ）和高定向热解石墨（ＨＯＰＧ）上制备出纳米尺度的银膜。利用扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）对......
采用扫描透射电镜 (STEM) ,研究了铝上磁控溅射沉积铀薄膜的形貌、组织、结构以及铀薄膜的生长模型。结果表明 :磁控溅射沉积铀薄......
探讨了U 薄膜的制备方法。主要介绍了机械抛光、电解抛光、机械轧制、磁控溅射沉积、离子束辅助沉积和聚焦离子束方法等,涉及了精......
使用配备有ＥＤＳ和ＥＣＰ附件的ＳＥＭ、ＡＥＭ和ＳＴＭ研究了在７５０和８００℃的Ｚｒ（Ｙ）Ｏ２衬底上磁控溅射沉积的大面积ＹＢＣＯ超导薄膜的表面组织状态。ＹＢＣＯ薄膜为ｃ轴取向单晶，但衬底温度为８００℃时，膜......
膜结构对钛／铌快速扩散行为的影响日本国家金属研究所研究了膜结构时铌膜／钛基体和钛膜／铌基体的快速扩散行为影响。这种钛基体上的铌......
在不锈钢材料表面，用射频磁控溅射沉积Ｃ—ＳｉＣ，利用ＸＲＤ、ＸＰＳ对电子束处理前后的Ｃ—ＳｉＣ涂层进行了微观分析．
On the surface of stainless steel, C-S......
用等离子体基脉冲偏压技术制备了ＤＬＣ（ 类金刚石碳） 膜，ＤＬＣ 膜硬度值达３０ＧＰａ， 电阻值达１００ＭΩ以上．降低脉冲负偏压峰值及适量引入氢气可促进ＳＰ３ 结构的形成，......
高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法。在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了......
瑞典的Ｌｉｎｋｏｐｉｎｇ大学的研究者们新近发现在通常很脆弱的纯碳材料中 ,如果用氮取代其 12个碳原子后就会变得具有相当强度且有弹性。借助于磁......
磁控溅射沉积的Y_2O_3:Eu薄膜获得2lm/W的阴极射线发光效率,并具有～250线对/毫米的高分辨率和好的透过率。同时开发了与这些荧光屏......
氧化锌膜是一种新型导电极。性能优良,价格低廉。本文主要介绍氧化锌膜的制作方法及工艺参数对其性能的影响。
Zinc oxide film ......
采用高频磁控溅射生长铝层。研究了各种基片温度、偏压和合金化温度对铝层生长及对Al—Si接触电阻值的影响,并分析了铝层发灰的原......
光电子谱与新材料的电子结构特约稿舅微波电子回旋共振等离子体技术及其应用低压气相合成金刚石的机理研究新进展· 1一12一793一1......
采取电化学沉积方法,在尿素的甲醇溶液中制备CNx薄膜,发现在反应原液中加入适量醋酸(CH3COOH)对成膜过程有重要影响.优化实验条件,......
采用单一的表面改性技术难以提高贫铀钛合金(DU-Ti)的耐蚀性能。采用等离子体浸没离子注入技术依次在DU-Ti合金表面注入N和Ti,再利......
通过磁控溅射沉积TiN/Ag金属化层作为Cu焊盘的保护层,非晶态的TiN膜作为阻挡层,阻止Cu原子的向外扩散;选择能够与Au丝形成固溶体的......
