脉冲磁控溅射相关论文
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshop on Plasma-Based ion implantation & deposition,PBI......
第十七届离子束材料表面改性国际会议(The 17th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion beams,S......
选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料,借助膜系设计软件对膜系结构进行优化,采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射......
本文报道了利用电感耦合等离子体辅助中频直流脉冲磁控溅射在温度300℃以下沉积氢化多晶硅薄膜的制备方法.利用拉曼散射、X射线衍......
本论文系统研究了中频磁控溅射方法制备氮化铬硬质薄膜的技术、工艺及其摩擦学性能。采用北京实力源股份有限公司的 SP0806AS 型中......
交流等离子显示器(AC PDP)具有主动发光、屏幕大、体积薄、重量轻、易于实现全彩色化显示等优点,是大屏幕高清晰度壁挂电视的首选......
本文研究了靶电源不同峰值电压及脉冲宽度条件下，MSIP016型磁控溅射离子镀工作时的电压、电流波形及伏安放电特性曲线。并选定不同......
磁控溅射技术是一种给基体上施加负电压的真空镀膜工艺。磁控溅射设备一般包括真空沉积室和磁控溅射电源等。磁控溅射工艺中,给基......
粉末靶封闭非平衡磁场脉冲磁控溅射是一种方便靶材配比、节约靶材成本的高效磁控溅射工艺,其特点是将固体粉末按成分需求配比,直接......
氧化铝涂层提供了在腐蚀或氧化环境下金属零件的保护,虽然,直到最近完全致密、无缺陷的氧化物涂层的制备是非常困难的,氧化物涂层......
采用直流脉冲磁控溅射方法,在室温下生长氢化Ga掺杂ZnO薄膜(GZO/H),并通过湿法后腐蚀技术获得绒面结构。研究了室温下H2流量对薄膜......
聚酰亚胺（PI）/石墨烯复合薄膜兼备了可挠曲性及透明、导电性,可作为柔性透明导电电极用于柔性电子器件中。但附着于PI上的石墨烯易划......
采用脉冲磁控溅射法制备氢化微晶硅薄膜，利用X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜和四探针测试仪对薄膜结构和电学性能进行表征和......
在O2/Ar混合气氛中,用脉冲磁控溅射金属V靶沉积出非晶的V2O5薄膜.对所沉积的薄膜进行450 ℃退火.利用X射线衍射、原子力显微镜、分......
利用脉冲磁控溅射法,以铝青铜合金(C63200)和硅片为基底,制作不同Ti含量的MoS2-Ti复合涂层。通过XRD、SEM、EDS、光学显微镜、多环......
在氩氧混合气氛中,常温下用脉冲磁控溅射方法在石英玻璃和硅片上制备了V2O5薄膜.用X射线衍射、X射线光电子谱和原子力显微镜对薄膜......
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在新材料研究前沿领域中,当今的沉积技术已经发展到能够制备高质量薄膜的程度,比如化学气相沉积(chemical vapor deposition, CVD)......
通过脉冲磁控溅射法在掺氟氧化锡透明导电薄膜(FTO)基底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。研究了溅射时间和衬底温度对FTO基底......
石英晶体谐振器制作的关键技术就是获得精确指定谐振频率的电极制备。磁控溅射镀膜技术在“被电极”工艺中的应用，较好的解决了蒸发......
在众多半导体催化材料中,TiO2具有催化活性高、氧化能力強、及光稳定性高等特性,成为最常用的一种半导体催化材料。随着世界范围内......
氧化铟锡（Tin-dope indium oxide,ITO）薄膜做为一种新型材料被应用于诸多领域,其优异的特性引起了各国专家的广泛关注和研究。ITO薄......
柔性OLED被认为是最具发展前景的下一代显示技术之一,但由于H2O、O2等有害气体的侵蚀,使柔性OLED器件很难达到商用显示器件1×104h......
用脉冲磁控溅射法在柔性衬底聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,研究了溅射气压、时间和衬底温度等工......
磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控......
氧化锌（ZnO）是一种新型的宽带隙II-VI族化合物半导体材料。掺杂ZnO体系（掺B、Al、Ga、In等）具有与ITO相比拟的光电特性，以及绿色环保、......
根据调研和文献,对不同的溅射技术进行了比较,针对脉冲磁控溅射(Pulse Megnetron Sputtering(PMS))的特点及受限于电源技术的瓶颈,......
石英晶体谐振器是一种提供基准时基的器件。它具有极高的频率稳定度,常用来作为频率控制和频率基准,在军用通信装置和科研仪器设备......
目的实现对AlTiSiN纳米复合涂层微观组织结构的调控及力学性能优化。方法利用可调控脉冲磁控溅射技术,通过调控基体偏压(-50~-250 ......
