基底温度相关论文
随着生物医学与生命科学领域的快速发展,人们对体外诊断检测设备的要求也越来越高。光学薄膜滤光器件作为系统的核心光学元器件—......
为了研制可用于高温环境下进行应变测量的应变层,采用脉冲激光沉积（PLD）法在陶瓷基底上制备了氧化铟锡（ITO）薄膜。研究了PLD法中不同基......
含有纳米粒子的液滴在固体表面蒸发后会形成一定的沉积图案，通过改变纳米粒子形状、基底温度、基底倾角、初始颗粒浓度，添加活性剂，增......
本文以纯度为99.99％金属Ti为靶材,玻璃为基底,Ar为溅射气体,N2和O2的混合气体为反应气体,通过直流磁控溅射法制备不同参数下的TiO2-......
该文基于前人的实验理论,率先研究了锆钛比为94/6的锆钛酸铅薄膜的性能.实验中薄膜样品的结构为Pt/PZT/YBCO/LAO,LAO为基底材料,Pt......
实验使用脉冲激光熔蚀金属铝靶，使溅射的物质粒子和真空室中的氮气反应以淀积氮化铝（ＡｌＮ）薄膜，淀积时引入氮气直流放电以促使Ａｌ和Ｎ发生完全反......
利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积出非晶的类金刚石薄膜。薄膜的折射率为 2 8左右 ;沉积速率与主回路电压以及脉冲频率有关 ......
采用离子辅助电子束蒸镀H4(H4是两种激光损伤阈值较高的材料氧化钛和氧化镧化合而成,分子式LaTiO3)薄膜。研究了氧气压力和基底温......
为了研究移动脉冲激光刻蚀单/双层金属/聚酰亚胺基复合材料的规律,利用有限元方法建立了移动纳秒脉冲激光刻蚀的通用模型,讨论了移......
金属玻璃又称非晶合金,由于其长程无序结构,使得金属玻璃在性能上相比晶体具有更突出的表现,比如高强度、高弹性极限等。随着微电......
材料的原生成分和结构以及测试参数都会影响综合性能。本论文以La-Co-Al、Zr-Cu-Ni-Al金属玻璃薄膜为研究模型对纳米压痕实验中加......
氧化铟锡(ITO)薄膜被广泛用作光电器件中的透明导电电极,其透光率、导电性、表面粗糙度、与基底的功函数匹配及其电流传输特性都会......
提出了一种新的电致变色薄膜的锂化方法。通过电子枪蒸镀锂单质，提高了锂的离化率，从而提高了锂化效果。采用此技术研制的全固态电致......
讨论了在低温下以高纯金属钒作靶材,用直流磁控溅射的方法制备出了氧化钒薄膜。通过设计正交试验,分析了氩气和氧气的流量比,溅射......
采用直流磁控溅射工艺,使用掺铝氧化锌(AZO)陶瓷靶,在玻璃基底上制备出具有c轴择优取向的AZO透明导电薄膜。运用共焦显微拉曼光谱......
用等离子体增强化学气相淀积制备了Ge掺杂SiO2薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理。采用棱镜耦合仪、原子力显微镜和傅里叶变......
用气相化学沉积法制备薄膜的过程,包括薄膜制备工艺本身和制备高纯度易挥发的原始材料(有机化合物,氢化物和卤化物)以及有关化学......
Ti-Si-N薄膜具有高硬度、较好的抗氧化性即热稳定性等诸多优点，并渐渐成为超硬材料的研究热点。因此研究薄膜Ti-Si-N生长的基础理论......
本文以聚合物太阳能器件常用的PEDOT:PSS. P3HT和PCBM等材料为样本,对喷涂法制备聚合物薄膜和聚合物太阳能器件进行了基础性的研究......
F掺杂SnO_2(FTO)薄膜由于具有优异的透明导电性能而备受关注,但目前在低温下采用磁控溅射法制备性能优良的FTO薄膜还缺少系统的研......
薄膜材料是一类重要的功能材料,在当代高技术中有着极其重要的应用。研究薄膜生长的理论对于发展新性能的新型材料及提高传统薄膜......
TiO_2薄膜具有良好的化学稳定性、优异的光学性能和良好的电学性能,并且还具有光催化效能高、无二次污染等特点,因而在电子材料、......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
详细研究了沉积在Poly(9-vinylcarbazole)(PVK)薄膜上的8-羟基喹啉铝(Alq3)薄膜的形态结构对电致发光器件ITO/PVK/Alq3/Mg-Ag性能......
采用反应磁控溅射法结合加热控温电源,在光学玻璃基底上制备氮化铝(AlN)薄膜,通过X射线衍射(XRD)技术对薄膜样品物相结构进行分析,......
研究了不同沉积方式和工艺参数对沉积在K9基底上的单层ZnS、YbF3薄膜和多层ZnS／YbF3薄膜缺陷的影响，发现基底温度和蒸发速率等工艺参......
探讨用磁控溅射法制备防紫外线PET织物的工艺条件及影响因素。用磁控溅射法在PET织物上制备纳米氟碳薄膜，在磁控溅射过程中对不同的......
采用磁控溅射方法分别在ITO玻璃和硅片上成功制备了具有良好C轴取向的ZnO薄膜．并研究了溅射气压，基底温度，以及氧偏压对ZnO薄膜物性的......
利用有磁过滤器的等离子体沉积装置，在不同温度的Si基底上沉积氮化铌(NbN)薄膜，通过XRD，XPS，SEM等分析，研究了NbN薄膜的表面形貌与微观......
采用电子束镀膜方法在Si基底上制备了Sc膜,利用XRD,SEM分析了不同镀膜工艺条件下制备的Sc膜的形貌和结构。结果表明：基底温度在350～5......
研究了液相基底温度对铝（A1）薄膜中具有准周期特征的带状有序结构的影响．实验发现，随着温度的升高，组成带状有序结构的矩形畴块平均长度......
在不同基底温度下,用电子束蒸镀法在未抛光Mo、抛光Mo及Si〈111〉基片上制备了Sc膜,并用XRD、SEM及AFM对薄膜的微观结构和表面形貌......
利用动力学晶格蒙特卡洛方法模拟了Cu薄膜在Cu（100）面上的三维生长过程．模型中考虑了四个动力学过程：原子沉积、增原子迁移、双原子迁......
在确定Cu薄膜临界尺寸的基础上，选定基底温度、靶基距、溅射功率和工作气压为影响因素设计正交试验，研究了磁控溅射制备工艺对Cu薄膜......
利用磁控溅射法制备了两组Mg/Nb复合薄膜,研究了不同Nb层厚度和不同基底温度对Mg/Nb复合薄膜脱氢温度的影响。结果表明,当Nb层厚度......
采用磁控溅射技术沉积碳化钒（VC）纳米薄膜,研究温度对VC薄膜的微观结构、力学及摩擦磨损性能的影响,并分析其内在关系.结果表明,沉积......
用电子薄膜应力分布测试仪测量了基底温度对Ag-MgF2金属陶瓷薄膜内应力的影响.结果表明:基底温度在300℃～400℃范围内,φ20.4 mm......
为了研究CaO的加入对MgO PDP介质保护膜晶面择优取向的影响,使用不同CaO含量的MgO+CaO膜料,在不同的基底温度和沉积速率下进行电子......
本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD),在室温下制备了ZrN、TiAlN和一系列ZrN/TiAlN纳米多层膜,利用XRD、纳米力学测试系统和多......
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等离子喷涂层片是形成涂层的基本单元,研究层片的形貌及显微结构对涂层的工艺优化和质量控制都具有重要意义。本研究在1Cr13不锈钢......
本文采用射频磁控溅射法制备ITO薄膜,该薄膜具有较低的红外发射率.利用紫外-可见-近红外分光光度计、红外发射率测量仪、四探针测......
分析了红外焦平面阵列（IRFPA）基于定标的非均匀性校正法（NUC）和基于场景的NUC算法各自的优势和问题，在此基础上提出了联合非均匀性校正......
使用RF-PECVD法分别在基底温度为60℃、120℃和200℃的N型单晶锗表面制备了α-C:H膜,采用拉曼光谱、傅里叶变换红外吸收光谱和原子......
