膜厚均匀性相关论文
为了提高窄带滤光膜的有效镀膜面积，用电子束与离子辅助沉积技术制备了大尺寸光通信滤光膜。利用离子束刻蚀原理修正膜层均匀性，研究......
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性，用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性，用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度，并研究不同离子束......
目的 提高新疆天文台南山观测基地ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性指标。方法 通过建立旋转行星夹具系统的膜厚分布模型，利用高......
基于非余弦膜厚计算公式,提出了利用极坐标简化表征膜厚分布的方法,对单源电子束蒸发的光学薄膜的膜厚均匀性控制进行了研究,同时......
红外滤光片,尤其是中长波红外窄带滤光片等光谱指标要求较高的红外光学薄膜,膜层厚度能达到几十微米,因而对膜料的需求非常大。当......
随着航空航天事业的不断发展,研究者们逐渐开始关注空间高能粒子的相关特性,各种高能粒子探测器不断被研发出来,实现对高能粒子不......
覆膜铁材料是一种新型功能性金属与高聚物复合材料,具有更好的安全性、环保性、美观性以及成形加工与封装保护保鲜性能,符合金属包......
研究了1.1m大口径镀膜机热蒸发制备金属铝膜的膜厚均匀性问题,针对旋转平面夹具分析了夹具高度H以及蒸发源与真空室中心轴距离L对......
光学膜系的膜层厚度的均匀性是指膜层厚度随着基板表面位置变化而变化的情况.膜厚均匀性不好,膜系特性会遭到严重的破坏.影响膜厚......
本文通过改变靶基距及样品与靶面偏转角等实验参数，采用直流磁控溅射离子镀技术在三种（1＃:角α=60°，2#:角α=90°，3#:凹角α=60°）样品......
为提高磁控溅射薄膜的厚度均匀性,采用理论计算的方法分析了离轴溅射薄膜的厚度分布,结果表明最佳偏心距及对应的有效薄膜尺寸都与......
利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整......
1引言rn大多数多晶硅太阳电池的减反射膜都是用增强的等离子化学气相沉积法(PECVD)沉积的掺氢氮化硅膜层(Sinx:H).和其它减反射膜(......
研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进......
镀膜在国民经济生活中得到广泛应用。影响镀膜性能的一个主要参数是膜层在整个基片上的厚度均匀性。利用挡板在基片上多个区域沉积......
为了获得高精密与超薄化电子陶瓷薄膜,针对基于计算机硬盘存储系统中磁头相对磁盘的动压悬浮原理的电子陶瓷薄膜动压悬浮流延法提......
本文依据L.Holland的膜厚公式和I.A.Neil的关手光学元件表面的数学表达式讨论了热蒸镀形镀膜机的膜厚均匀性,计算了平面、球面。高......
本发明涉及一种提高产品横向膜厚均匀性的吹膜模头，属于塑料加工的技术领域，吹膜模头包括分流间隙、模唇间隙和阻流环，并且塑料熔体从......
本文建立了多工位公自转磁控溅射系统镀膜过程的物理模型，通过把基片运动与镀膜过程的模拟结合在一起，运用时间步长划分的算法仿真公......
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术，根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均......
研究了公-自转磁控溅射镀膜系统的机理。通过物理建模，使用交点采集和时间步长划分两种模型，分别计算模拟了矩形靶沉积时间的三维分......
本文主要介绍了通过采用S-RRC(SUPPER REDUCED RESIST CONSUMPTION)技术来进行光刻胶膜厚均匀性的调整，从而降低光刻涂胶中光刻胶的......
本文采用离子束溅射方法制备 GdF3薄膜，并研究其沉积速率分布特征。首先，采用膜厚仪测量得出 GdF3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分......
研制了一台永磁ECR等离子体化学气相沉积系统.通过同轴开口电介质空腔产生表面波,利用高磁能积Nd-Fe-B磁钢块的合理分布形成高强磁......
讨论了影响电子束蒸发镀膜厚度均均匀性的因素,提出了一种确定膜料蒸发特性的方法。并针对平面旋转夹具分析了夹具高度以及蒸发源......
随着镀膜技术的发展,镀制由多种元素成分组成的复合膜系已经被广泛采用,并且有越来越多的发展趋势。因为由多种元素成分组成的复合......
针对半球面大口径球形光学元件的膜层均匀性进行了理论分析研究。通过建立半球形基底内表面的数学模型,运用膜厚理论公式表达出内......
大口径主镜是大型光学系统的核心元件,如大型天文望远镜,其空间分辨率和聚光能力主要与主镜直径密切相关。随着科学研究发展的需要......
采用离子束溅射制备了Al F3、Gd F3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特......
对目前广泛用于制备高Ｔｃ（转变温度）超导薄膜的环形磁控溅射成膜提出了一种新的理论模型，采用泰勒展开计算出了三阶近似的解析结果．通过计......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
户外照明赉用大面积光学薄膜，对薄膜均匀性提出较高的要求。采用平面公自转行星夹具镀制户外照明用大面积光学薄膜，分析计算了光学薄......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型，借助Matlab模拟仿真软件，对卷绕柔性．衬底（宽度为100mm，弯曲半径为100mm，弯曲角为80°）的膜......
为了在光学元件镀膜过程中精确控制膜厚均匀性,通常需要有针对性地设计并制作膜厚修正挡板。然而,由于基底在真空室内运动方式复杂......
利用国内最大箱式高真空镀膜设备ZZS3600,开展了双离子束辅助反应蒸发技术及光学薄膜厚度均匀性研究。借助MarkⅡ离子源辅助反应蒸......
在真空镀膜中,磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点广泛应用于各种薄膜制造中,在科研领域以及工业生产中发挥着不可替代的作用......
为在圆柱基底上制备一定厚度的均匀光刻胶膜层,进行了提拉法涂胶试验,并结合试验建立了数值模型,模拟仿真了不同工况下的液膜轮廓,......
为满足精密光学系统的性能需求，真空紫外光学薄膜元件的尺寸和数值孔径越来越大，对制备高性能的真空紫外光学薄膜提出更多的挑战。主......
经过一百多年的发展,薄膜光学已经成为近代光学的重要分支。光学薄膜技术在理论、设计、计算和工艺方面已形成了完整的体系,一些新......
膜厚均匀性是考核膜层性能的重要指标之一,对于一般较小且形状较为平整的光学元件,其膜厚的均匀性一般会得到良好的控制。而对于大......
对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究。首先,推导了半球面静止时球面各点的膜厚方程以及此时半......
介绍了FBAR用复合氮化铝(AlN)压电薄膜的制作方法。采用双S枪中频(40kHz)磁控反应性溅射铝靶制作出了AlN压电薄膜。采用双S枪直流(......
基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素,磁控溅射镀膜是最常用的薄膜制备方法之一,针对磁控溅射镀膜技术的膜......
相对于光学薄膜的设计而言,光学薄膜的制备工艺显得更为基础和重要。制备工艺决定设计的实现,而新的设计又会对制备工艺提出更高的......
