等离子体增强相关论文
利用红外吸收谱等微观分析对氧化硅和氨化硅薄膜的成分和结构进行了研究．采用高频Ｃ－Ｖ测试和准静态离子电流法测量了氧化硅、氯化硅及其......
最新Flex系统提供业界首创的电介质原子层刻蚀(ALE)生产工艺并已应用于量产。半导体设备制造商泛林集团公司推出了基于Flex电介质......
用等离子体增强化学气相淀积制备了Ge掺杂SiO2薄膜,并对薄膜进行了不同温度的退火处理。采用棱镜耦合仪、原子力显微镜和傅里叶变......
报道了自行设计的将二维Ｄａｍｍａｎｎ光栅和Ｆｒｅｓｎｅｌ波带板集成为一体的同时具有分束和聚焦功能的二元位相型光分束器，并用等离子体增强化学气相淀积法（ＰＥＣＶＤ）制......
利用等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石碳(DLC)薄膜，并将其分别浸泡在经磁场处理和未经磁场处理的去离子水......
众所周知,硅基材料在半导体行业起到了举足轻重的地位,比如说现在的液晶显示屏都会使用低温多晶硅薄膜,这些薄膜可以使用准分子激......
氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜在薄膜太阳能电池、薄膜晶体管、辐射探测和液晶显示等领域有着重要的应用,因而在世界范围内得到了广泛的......
随着现代材料科学、生命科学以及医学科学的迅猛发展，生物材料在临床医学领域中的应用已日趋广泛。等离子体表面改性技术现已成为生......
本实验利用自制的磁控弧光射频等离子体增强化学气相沉积(RF magnetron PECVD)设备,在生物玻璃片上制备类金刚石碳(DLC)膜,利用探......
掺氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜是一种基于传统的类金刚石薄膜(DLC)和氟化非晶碳(a-C：F：H)薄膜的改性材料。结合了DLC和a-C：F：H薄膜的优......
传统相变热处理和化学热处理用于钢铁表面改性已很难满足现代工业，尤其是精密加工制造业的需要。氮化硅膜以其硬度高、耐磨性和耐腐......
多晶硅(Poly-Si)薄膜以其优异的光电性能与较低的制备成本,在能源信息产业中日益成为一种非常重要的电子材料,在大规模集成电路和......
在硅基上实现光电单片集成，能够为微电子器件提供大带宽的光互连，同时为光电子器件提供低廉的制造成本，这使得硅基光电子成为国际上半......
本文采用辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术，利用C2H4、N2、B2H6和Ar作为反应气体，在n型和p型导电硅片上制备DLC、N-DLC......
近年来，随着工控技术的发展，计算机自动控制系统广泛地应用于国民生产的各个领域。对于真空镀膜设备，为了保障薄膜的质量及生产的效率......
硅基薄膜太阳电池已成为光伏发电系统中的重要组成部分，开发低成本、高效率的太阳电池是其研究的重点。对非晶硅及微晶硅太阳电池性......
由氢化微晶硅(μc-Si∶H)与氢化非晶硅(a-Si∶H)构成的a-Si∶H/μc-Si∶H叠层太阳电池（micromorph电池），可以更充分地利用太阳光，并且......
本文在微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体辅助下，分别以单晶硅靶、石墨靶和陶瓷SiC靶为溅射靶材，Ar气为溅射气体，制备了富硅SiC和SiC......
鉴于常规能源供给的有限性和环保压力的增加。世界上许多国家掀起了开发和利用新能源的热潮。在新能源中。特别引人瞩目的是不断地......
综述了化学物质释放方式空间物理主动实验的由来、发展和最新研究状况，尤其是美国、俄罗斯最近五年实施的五个计划的10余次实验，分析......
利用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统制备了a—Si：H薄膜．使用KrF准分子脉冲激光对a-Si：H薄膜进行辐照，使a-Si：H晶化．拉曼散射谱和电......
设计了一种应用于等离子体增强电化学表面陶瓷化技术(PECC)的双向电流方波脉冲电源，对电源的主电路结构及工作原理进行了详细的分析......
鉴于ZnO薄膜材料的多功能性，用等离子体增强化学气相沉积方法在金属Cu和普通玻璃上生长了ZnO薄膜.扫描电子显微镜获得其表面形貌；能......
为了提高晶体硅太阳能电池的光电转换效率，以及获得较佳的减反射膜的膜厚和折射率，根据计算得出的在波长为600nm的太阳光下减反射膜......
实验基于同一台热丝增强等离子体平衡磁控溅射镀膜机,在SKH51高速钢基体上分别实现等离子体渗氮和沉积氮化铬涂层,最后初步实现了......
本文采用等离子体增强平衡磁控溅射技术在H13刃具钢表面制备硬质涂层,以达到刃具表面强硬化的目的。在H13刃具钢表面制备了不同基......
为了获得更高的光输出功率,采用倒装的结构.研究了p-GaN面生长金属高反镜前后GaN面的出光量.在p-GaN的表面上生长金属高反镜后,设......
阻变存储器(ReRAM)是国际公认的下一代主流存储器的有力竞争者,具有单元尺寸小、读写速度快、功耗低、制备工艺和器件结构简单等优......
随着原子层沉积(ALD)工艺技术的不断创新和发展,不同的ALD工艺在各具发展优势的同时,也面临很多问题和挑战。介绍了ALD工艺的发展......
在热丝化学气相沉积金刚石系统中,通过双灯丝间的热阴极放电产生等离子体,对衬底施加正负偏压形成电子促进,比较分析了它们及其组......
在传统的HFCVD系统中，引入射频电源后，通过与灯丝或者衬底的连接，组成了射频放电辅助下的四种不同沉积金刚石的生长模式。在各种生长......
随着石化资源的不断减少，目前世界上天然气的消费比重增加，寻找清洁能源和高效、低排放的燃烧路线成为各国科研与工程技术人员的重要......
Si基Ⅱ-Ⅵ族发光晶体材料具有极其广泛和潜在的应用前景，然而在Si衬底上却难以生长出高质量的外延片。在Ⅱ-Ⅵ族材料外延生长之前采......
Pb(Zrx,Ti1-x)O3铁电薄膜由于其优异的铁电、压电、电光、热释电等性能,在热释电红外探测器、铁电随机存储器、光调制器、电容器等......
在等离子体增强电弧离子镀设备中,用热丝增强放电的辉光等离子体对1Cr17Ni2马氏体不锈钢进行表面氮化处理。对氮化层的表面形貌、......
