非晶金刚石薄膜相关论文
采用磁过滤真空弧等离子体沉积系统，在纳米尺寸硅尖针阵列＜＇[1]＞上沉积不同厚度的非晶金刚石薄膜（a-D）。扫描电镜（SEM）分析结果表明薄膜均......
在Au/Si和Ti/Si和Si三种不同的衬底材料，通过真空磁过滤弧源沉积技术制备了无氢高sp＜＇3＞键含量非晶金刚石薄膜（amorphous diamond:AD）。......
本研究利用磁过滤金属蒸汽真空弧(MEVVA)沉积设备制备无氢非晶金刚石薄膜,开展了不同衬底材料对非晶金刚石薄膜的制备及性能的影响......
作者通过反复实验和比较分析,在非晶金刚石薄膜发射实验中首次得到晶格水平的相变数据,并提出了场致诱导相变阶越增强电子发射机理......
该文研究了真空磁过滤弧沉积方法制备的非晶金石薄膜 (a-DF)的电子场发射性能 ,SP2 键含量不同的薄膜的场发射性能有很大的差异 ,S......
目的:探索纳米非晶金刚石薄膜对牙用纯钛表面腐蚀性能的影响.方法:将纯钛加工成直径15mm、厚2mm的圆片试件24个,随机分成两组,一组......
碳离子的能量是影响非晶金刚石薄膜结构和性质最关键的工艺参数．采用磁过滤真空溅射离子技术，研究不同衬底偏压Ｖｂ（即不同碳离子能量）下制......
本文对纳米非晶金刚石薄膜与口腔材料的膜基结合力,耐磨性和抗菌性能进行了实验研究,以为将纳米非晶金刚石薄膜应用于口腔修复......
金刚石薄膜、类金刚石薄膜和非晶金刚石薄膜在制作场致电子发射器件中已开始占有不可忽视的地位。本文采用是极氧化方法腐蚀n-型单......
在Au/Si和Ti/Si和Si三种不同的衬底材料，通过真空磁过滤弧源沉积技术制备了无氢高sp＜＇3＞键含量非晶金刚石薄膜（amorphous diamond:AD）。......
采用磁过滤真空弧等离子体沉积系统，在纳米尺寸硅尖针阵列＜＇[1]＞上沉积不同厚度的非晶金刚石薄膜（a-D）。扫描电镜（SEM）分析结果表明薄膜均......
采用二极管结构，对真空磁过滤弧源沉积非晶金刚石薄膜（amorphous diamond:a-D）的电子场发射性能进行了研究。结果发现，非晶金刚石薄膜......
本文报告了用真空磁过滤弧沉积技术(FAD)在Si,Ni和Cu衬底上沉积非晶金刚石薄膜(a-D)及其摩擦和磨损性能的研究结果.......
非晶金刚石薄膜具有优良的场致电子发射特性，在真空微电子器件，特别是场发射平板显示器上有广泛的应用前景。本研究用磁过滤直流溅射......
会议
本论文在国内第一台真空磁过滤弧沉积（Filtered arc deposition，FAD）系统的基础上，以制备优质非晶金刚石薄膜为目标，对设备进行了优化改......
该论文在研究界面特性对非晶、红领巾米晶金刚石薄膜场致电子发射的影响方面主要做了以下几项工作:1、首次研究了沉积在金属表面的......
该论文工作首先综述了场致电子发射理论及其应用于平板显示器件研究方面的发展状况,并回顾碳纳米管作为一种极有前途的冷阴极电子......
在Au/Si和Ti/Si和Si 3种不同的衬底材料上 ,通过真空磁过滤弧源沉积技术制备了无氢高sp3 键含量非晶金刚石薄膜 (amorphousdiamond......
目的:确认纳米非晶金刚石膜能否镀覆在镍铬合金烤瓷复合体的表面,检测膜与镍铬合金及烤瓷表面的结合强度。方法:制得镍铬合金烤瓷......
利用过滤阴极真空电弧系统制备了不同衬底偏压下非晶金刚石薄膜,分别采用X射线反射法测定了相应的非晶金刚石膜密度,分析了薄膜密......
碳离子的能量是影响非晶金刚石薄膜结构和性质最关键的工艺参数. 采用磁过滤真空溅射离子技术,研究不同衬底偏压V b(即不同碳离子......
近年来,随着纳米技术在各个领域的应用,国内外学者也试图和已经将纳米材料引入口腔临床,以改善和发展口腔材料的应用。本文对纳米......
目的：确认纳米非晶金刚石膜能否镀覆在镍铬合金烤瓷复合体的表面，检测膜与镍铬合金及烤瓷表面的结合强度。方法：制得镍铬合金烤瓷试件......
目的:对纳米非晶金刚石薄膜与热凝义齿树脂材料的膜基结合力进行实验研究,为将纳米非晶金刚石薄膜应用于口腔修复学领域奠定基础.......
目的:研究不同镀膜方法对纳米非晶金刚石薄膜提高树脂人工牙耐磨性能的影响.方法:分别用极化和紫外光照射的方法对人工牙进行预处......
［摘要］目的：研究纳米非晶金刚石薄膜与纯钛及钴铬合金表面结合强度以及镀膜厚度对结合强度的影响。方法：制备钴铬合金和纯钛圆片试件各......
[摘要]目的：探索纳米非晶金刚石薄膜对牙用钴铬合金表面腐蚀性能的影响。方法：将硬质钴铬合金锭铸造成直径20mm、长15cm的圆棒，再将圆......
该文研究了真空磁过滤弧沉积方法制备的非晶金石薄膜 (a-DF)的电子场发射性能 ,SP2 键含量不同的薄膜的场发射性能有很大的差异 ,S......
目的：观测纳米非晶金刚石膜对镍铬及钴铬两种非贵金属烤瓷合金在人工唾液中金属离子析出的影响。方法：制备镍铬合金、钴铬合金圆片形......
把非晶金刚石薄膜的XPS C1s谱分解为中心在284.4±0.1eV 和285.2±0.1eV的两个高斯特征峰,分别对应于碳薄膜中的sp2C和sp3......
非晶金刚石薄膜具有超高硬度等一系列优异的特殊性能,为工程界孜孜追求的材料表面镀膜.用百纳科技公司研发制造的过滤阴极真空电弧......
研究了用真空磁过滤弧沉积方法制备的非晶金刚石薄膜的电子场发射性能，其最小阈值电压为２．１Ｖ。ｓｐ＾３键含量不同的ａ－ＤＦ发射性能也不同，适当的ｓｐ＾２键含量......
目的：探索纳米非晶金刚石薄膜对牙用纯钛表面腐蚀性能的影响．方法：将纯钛加工成直径15mm、厚2mm的圆片试件24个，随机分成两组，一组试件......
碳离子的能量是影响非晶金刚石薄膜结构的性质最关键的工艺参数。采用磁过滤真空溅射离子技术，研究不同衬底偏压Ｖｂ下制备的非晶金刚石......
以固态掺杂方式利用过滤阴极真空电弧技术制备掺硼非晶金刚石薄膜,获得性能优良的宽带隙p型半导体材料,再利用等离子增强化学气相......
