基体温度相关论文
为了研究磁控溅射过程中基体温度对涂层结构和性能的影响.利用磁控溅射技术在Zr-4合金表面制备不同基体温度下的TiN涂层,用X射线衍......
采用EB-PVD工艺在高温合金基体上制备了不同基体预热温度、不同粘结层厚度的YSZ热障涂层.实验结果显示,对于MCrAlY类涂层,EB-PVD工......
用热电偶直接接触法测量了不同工艺参数条件下基体的沉积温度,结果表明,基体偏压幅值越高,电弧电流越大,靶与基体的间距越小,基体......
采用分子动力学模拟技术研究铜刚性针尖嵌入基体时发生的变形过程,揭示了基体温度、嵌入速度对界面法向力、材料变形行为的影响.模......
一、表面改性的意义及作用广义而言,表面改性就是通过某种工艺手段使固体(主要指金属)的表面具有不同于基体材料的组织结构、化学......
金刚石薄膜的研究进展很快,利用富乙炔的氧(O_2)-乙炔(C_2H_2)火焰在大气中沉积金刚石是一种简单的快速沉积金刚石的方法。 在用O......
原子层外延生长(ALE)最初被设想为生长半导体化合物的一种方法,生长层具有大面积的非凡均匀性,层面厚度能被精确控制。当应用于金......
磁控溅射ＮｉＣｒＡｌＹ镀层的组织结构研究徐爱群黄海波王世栋（东南大学分析测试中心，南京２１００１８）磁控溅射ＮｉＣｒＡｌＹ镀层由于其优异的抗高温氧化性能和抗热腐蚀性......
研究了燃焰法沉积金刚石薄膜的质量均匀性，指出反应气体流量比是影响金刚石薄膜质量均匀性的主要因素．基片表面沉积区径向温度梯度使......
研究了热丝ＣＶＤ法金刚石薄膜本征内应力随甲烷的体积分数（０４％～１２％）、生长温度（８００℃～１０００℃）等生长工艺参数的变化关系。在所研究的工艺参数范围内，金刚......
利用磁控溅射技术得到纯bcc,bcc+fcc和纯fcc结构的一系列1Cr18Ni9Ti不锈钢微晶层。用电化学方法研究了这些微晶层的耐孔蚀性能。结......
利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积出非晶的类金刚石薄膜。薄膜的折射率为 2 8左右 ;沉积速率与主回路电压以及脉冲频率有关 ......
我厂有一种零件要求在大面积板形钢件上,栽桩一带帽钢销钉(如图1所示)。原工艺是采用分钻孔、销钉压装、背面焊接、磨光四道工序,......
一、前言中空热阴极离子镀技术是在中空热阴极离子电子束和离子镀技术的基础上发展起来的。1963年Moley最先建立了中空热阴极放电......
化学气相沉积(CVD)起始于19世纪末,先后用于钛、锆等金属的提纯以及金属丝和金属板的耐磨、耐热表面保护。本世纪50年代西德金属......
前言 为了提高刀具的耐磨性和耐腐蚀能力,目前国际上广泛采用刀具涂复新技术。刀具涂复技术主要有化学气相沉积法和物理气相沉积法......
近来 P.A.P.V.D.(等.离子增强物理气相沉积)法沉积硬质耐磨涂层受到人们的普遍关注。为了优化硬质涂层的性能。本文研究了 TiN、Ti......
介绍金属材料表面改性新技术,即离子束轰击技术与传统的和一些其它沉积制膜方法相结合的新式制膜工艺,及其典型设备和装置,并总结......
引言在高温系统下的工作条件对零部件的功率重量比和寿命要求如此之高,以致使材料就其性能而言,在选取方面可能十分苛刻。材料的......
本文进行了对模具表面离子镀TiN薄膜的研究,本实验采用直流二极型离子镀,实验设备是由一台真空镀膜机改装而成。离子镀是一个很复......
本文介绍了中空阴极放电物理气相沉积法(简称HCD法)用于高速钢刀具表面镀氮化钛薄膜的工艺过程及主要参数,以及镀氮化钛薄膜刀具的......
本文研究的是一种新型材料——“倾斜功能材料”。在一定实验的基础上利用等离子喷涂法成功地制造了7层过渡的Ni基合金—ZrO_2.Y_2......
扁平粒子是热喷涂涂层的基本形成单元，也是近几十年来关注的热点。为了更好地理解扁平粒子的形成，本论文设计并制备了毫米级镍熔......
激光诱导击穿光谱（Laser Induced Breakdown Spectroscopy,LIBS）是一种能够远程原位、实时在线、无需样品预处理、全元素分析的元素......
通过等离子喷涂技术将YAG:Ce荧光涂层沉积在钛合金表面,沉积的涂层具有较为致密的结构和良好的发光性能。研究腐蚀环境下涂层荧光......
日本科学技术厅无机材枓研究所在用微波等离子体化学气相沉积法合成球形金刚石细粉末方面获得成功,微波等离子体化学气相沉积法是......
光刻复制计量仪器的线性光栅多以金属铬膜做为光栅刻线,该膜具有良好的机械强度和化学稳定性。因此,也较普遍地用作各种分划图案......
利用薄膜科学的最新发展和梯度功能材料的研究思路，成功地解决了金属基体表面沉积薄膜热电偶时的交叉绝缘和连接强度问题，从而研制出......
一、前言 Nb_3Ge具有三高(高Tc、Jc、Hc_2)一低(低损耗)的优良特性,有着种种应用,其中要算Tokamak聚变动力堆和超导输电线方面的......
本文综合分析了立方氮化硼（ｃ－ＢＮ）膜的制备方法，介绍了ｃ－ＢＮ膜的结构及其机械、电学、光学和热学性能。最后总结了ｃ－ＢＮ膜在机械和电子领域的应用概况......
微波电子回旋共振（delectroncyclotronresonance．ECR）等离子体溅射法是能在低温下制备高质量薄膜的最新镀膜技术．在该技术中，微波输入窗......
第 1期SiCp/2 0 2 4复合材料半固态坯二次加热组织的研究罗守靖 ,姜巨福 ,祖丽君 ,等 (1 )……………………电磁搅拌的半固态 60Si......
Nb_3Ge的临界温度Tc最高(23.2K),它具有三高(高Tc、Jc、Hc_2)一低(低损耗)的优良特性。广为世界各国探索高临界温度超导工作者的......
采用空心热阴极放电(HCD)方法实行了铬和钛的氨化物的反应离子镀,研究表明沉积在基体上的硬度是温度施加于基体的偏压和氮气分压的......
一、引言 由Mattox将辉光放电技术与蒸发镀膜结合起来、创始了二极管式离子镀起,到现在已经发展成了e型枪电子束离子镀、高频激励......
一、引言空心阴极放电法(HCD)的特点是金属离子的通量和轰击基体的粒子的能量都很高。Wan 等人对 HCD 法如何应用于物理气相沉积......
第七届国际真空冶金和冶金镀膜会议于1982年11月26日──11月30日在东京经团联会馆举行。参加会议的有美国、苏联、西德、英国、日......
一、会议概况 第十届国际真空会议、第六届国际固体表面会议、第三十三届美国真空会议于1986年10月27～31日在美国巴尔的摩举行。参......
本文用离化原子团束工艺淀积 Sb 和 Pb 薄膜,系统研究了各淀积参数对薄膜晶粒取向度等结构特性的影响,并测定了 Pb 原子团束的原子......
采用ｘ－ｒａｙ衍射、电子衍射、电子探针、二次离子质谱及俄歇电子能谱等分析方法研究了低能氮离子轰击对不锈钢基材上 ＨＣＤ离子镇 Ｔｉ膜层的组成，结......
一、引言政变沉极过程中的工艺参数,会获得性能各异的氮化钛沉积层。而这种性能上的差异,则要归结于沉积层内部结构的不同。因而,......
