玻璃基底相关论文
在光谱椭偏测量中，玻璃基底的背反射会给测量结果造成较大影响。针对平板显示器件玻璃基底表面氮化硅镀膜进行了椭偏测量和模型计算......
以预制的ZnO晶种层为基底,采用化学溶液生长法,在不同生长液浓度(Zn2+)条件下生长ZnO纳米棒,对制备得到的ZnO纳米棒的结构和微观形......
采用离子交换和化学沉淀法在玻璃基底表面成功合成了h-MoO3和α-MoO3薄膜.分别用XRD、SEM等手段对产物进行表征,通过荧光光谱和紫......
金属薄膜/聚合物基底(尤其是温度敏感型的聚合物)结构在外力和加热影响下的力学性能变化直接影响到器件的功能和使用寿命。通过光......
海洋光学发布了一款全新的纳米海绵状SERS芯片。与同类产品相比,该芯片具有更低的背景噪音、更高的激光功率承受力、更宽的泛波长......
准分子激光退火是一种可以将非晶体硅（a－silicon）转变为多晶硅（resilicon）的处理方法．由于它允许对玻璃基底上的硅薄膜低温处理，代替了需......
三倍频增透膜可应用于谐波产生激光系统。本文首先用矢量法设计了石英玻璃基底上的三倍频增透膜，然后结合工艺试验选定合适膜料，根据......
针对新型荧光字符平板显示器件的工艺特点，研制出了能满足其工艺要求的电极银浆料。该浆料的最佳峰值烧成温度为５５０～５８０℃，玻璃相含量５．５％～６．５％（质量分......
光学镀膜阈值测量的光声法利用激光在膜层物质中吸收激发的光声信号相对于激光强度变化率的突变来判断膜层损伤前所接受的激光强......
采用高频小火花光源,以薄膜样品作为下电极,并改装为运动方式,直接测定了X光天文成像望远镜前置滤光片上零点几微米厚的铝镁合金镀......
本文报导用研制四氟化钍(ThF_4)镀制金膜反射镜保护膜的结果。
This paper reports the results of a protective film made of a......
使用直流辉光和微波电子回旋共振两种等离子体辅助反应蒸发法在有机玻璃基底上制备了透明导电ＩＴＯ膜。在实验中详细地研究了氧分压对膜......
采用ANSYS有限元分析软件中热分析结构单元,对聚合物电致发光二极管(PLED)在光强为1000cd/m2时的热特性进行模拟,获得其温度场、热......
本文采用溶液聚合法及乳液聚合法合成了可溶性聚苯胺 ,用光电子能谱、X -射线衍射对其本征态及掺杂态的结构进行了表征。以甲基丙......
通过脉冲激光沉积（PLD）在石英玻璃基底上沉积了四元Zn0．86Cd0．11In0．03O（ZCIO）合金半导体薄膜。其中，Cd的掺杂是用以改变ZnO的光学禁带宽度......
以硅为衬底,采用射频磁控溅射技术制备了TiO_2薄膜,利用扫描电子显微镜及拉曼光谱对退火前后的TiO_2进行表征与结构分析。结果表明......
采用直流磁控溅射和后退火工艺先在掺Al氧化锌(AZO)导电玻璃基底上制备了高质量的VO_2薄膜,再在VO_2膜层上制备AZO导电膜,最终制备......
相息图是一种按照光波的位相分布而变化其光学厚度的位相型光学元件,具有同轴再现,衍射效率高,功能多样等优点.球面透镜相息图是最......
金属基底刻划红外光栅是用于高能激光器如二氧化碳激光器选频用的分光元件。金属基底刻划红外光栅是选用金属材料,加工成有一定光......
所谓偏光解析法就是利用椭圆仪研究偏振光经团体或膜层表面反射后偏振态的变化。它不仅可用来测定薄膜的光学常数,固体表面诸如氧......
本文从实验结果出发,比已有的文献更全面地分析了透射全息图的反射象的成因。
Based on the experimental results, the paper an......
一、前言为了研制高性能的薄膜读写磁头,需要具有高导磁率和低磁致伸缩常数的薄膜磁性材料,单轴各向异性的材料适合于此目的。通......
提出一种新颖的采用薄膜技术在玻璃基底上构造微机构可调谐二维窄带滤光片阵列的方法。在有限元分析的基础上 ,计算出器件在静电力......
采用溶胶－凝胶法制备出ＴｉＯ２纳米晶胶体，通过丝网印刷技术直接在导电玻璃基底上制成胶体膜，经烧结处理得到海绵状的厚约１０μｍ纳米晶ＴｉＯ２膜．由于该膜......
利用分子沉积技术在石英和玻璃基底上制备了含有Cu2+的聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)/聚丙烯酸(PAA)分子沉积膜,然后将不同层数的......
本文针对建筑玻璃镀膜的要求，设计出了三类简单膜系结构，即单层金属膜、电介质／金属二层膜和电介质／金属／电介质三层对称膜，给出了它们的......
在三电极体系中,以硝酸锌水溶液作为电解液,采用阴极还原电沉积法成功实现了一维纳米结构ZnO阵列在TiO2纳米粒子/ITO导电玻璃薄膜......
超常材料具有人工设计的结构,并有自然材料所不具备的超常物理性质。超常材料的电磁响应灵活可调,对太赫兹(THz)技术意义非凡。THz......
选择硫酸氧钛(TiOSO4)作为无机钛源前驱体,通过温和的水热法在掺氟氧化锡导电玻璃基底(FTO)上直接合成单晶金红石相TiO2纳米棒薄膜......
使用低密度聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯和疏水性SiO2为原料,通过简单的共混涂膜方法在玻璃基底上制得了具有超疏水性能的聚乙烯/疏水......
采用直流磁控溅射和后退火氧化的方法在掺铝氧化锌(AZO)导电玻璃上制备了二氧化钒(VO2)薄膜,研究了不同的退火温度、退火时间对VO2......
采用电泳沉积技术在氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)导电玻璃基底上制备出LaMnO3/石墨烯薄膜。通过扫描电子显微镜、透射电子显微......
利用磁控溅射和阳光刻技术在玻璃基底上成功制备了不同厚度SnO2的表面传导场致发射阴极阵列,并测试其场致发射性能。X射线衍射和X......
射频通信领域中,开关触点材料对射频微电子机械系统(RF MEMS)开关的性能影响很大。在图形化的二氧化硅(Si O2)基底上采用热化学气......
采用磁控溅射法,在玻璃基底上一步沉积In_2S_3薄膜。研究了溅射功率对In_2S_3薄膜的成分、结构、表面形貌和光电性能的影响。结果......
以硅为衬底,采用射频磁控溅射技术制备了TiO_2薄膜,利用扫描电镜及拉曼光谱对退火前后的TiO_2进行分析。退火后的TiO_2具有良好的......
本文叙述了采用复制技术,在毛玻璃基底或类似毛玻璃的大理石、陶瓷、▽6的金属表面上,形成具有N=1/4,△N=0.2～0.3的反射面的光学零......
从工业生产的实用条件出发,设计了适用于各种玻璃基底的三层λ_0/4增透膜系;研究了影响这种膜系光学性能的各种因素,讨论了反射光......
在玻璃基底上先镀100nm左右的金膜后,用钨舟蒸金、电子束蒸二氧化硅同时用两个石英振荡器控制二者的密度比率,用反射光强控制(SiO_......
本文叙述了使用等离子体辅助反应蒸发法在有机玻璃基底上制备透明导电ITO膜的研究结果。成功地在室温的条件下,制备出了高透明的、......
