薄膜物理学相关论文
以聚酰亚胺薄膜为靶子,用高电导硅作为衬底,KrF准分子激光器作为辐射光源,利用脉冲激光沉积技术制备出了类石墨薄膜,并以该薄膜为......
为了提高制作偶氮苯微结构的实验技术,在偶氮苯聚合物的光致异构和光致取向特性的基础上,利用两激光束的新实验方案,运用比较简便......
随着电子设备小型化、高频化的不断发展,应用于电磁器件的高频软磁材料成为一个十分活跃的研究领域。理论和实验表明,CoFe基软磁性......
透明导电氧化物薄膜具有高的载流子浓度和较宽的光学能隙,因而表现出优良的光电性能,如低的电阻率和在可见光范围内高的透光率。目......
CdS/CdTe薄膜太阳能电池的制备及其特性研究，是一项国际前沿课题。在光伏领域有广阔的发展前景。其中CdS薄膜做为电池的窗口层，其质......
近年来的研究显示，贵金属纳米颗粒的掺杂能改善介质薄膜的性质。当贵金属纳米颗粒镶嵌在介质薄膜中时，由于纳米颗粒局域场增强效应，使......
碳纳米管表现出的优良场发射特性，使其在真空纳微电子器件中的应用受到广泛关注，因此，碳纳米管冷阴极及其应用的研究是真空微纳电子学......
磁免疫生物传感器是一种能应用于快速诊断、高通量药物筛选等的敏感检测元件，能在海关进出口检疫、军事装备场合、环境检测等场合作......
介绍了一种利用脉冲准分子激光轰击钛(或镍)靶诱导出等离子体从而在金刚石颗粒表面沉积Ti,Ni等金属保护层的新方法.使用抗压强度测......
用热分解法制备的Bi,Al替DyIG磁光薄膜虽然是纳米晶 ,但由于其晶界分布不均匀、晶粒较大且均匀性差 ,当用于磁光记录时 ,晶界将产......
采用脉冲激光双光束沉积系统在Si(111)衬底上生长了掺Mg的GaN薄膜和未掺杂GaN薄膜。利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM)、室......
在经NH3 等离子体氮化的Si(10 0 )衬底上 ,用等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)的方法生长了ZnO缓冲层 ,经X射线衍射 (XRD)测量 ,......
ZrO2 薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射 (XRD)仪和原子力显微镜 (AFM)检测了ZrO2 薄膜的晶......
偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin-......
提出了基于遗传算法的窄带滤光片的优化设计方法 ,建立了遗传算法的理论分析模型。根据开发的程序 ,优化设计出一组 5 0GHz的窄带......
采用准分子脉冲激光沉积法 (PLD)分别在Pt/Ti/SiO2 /Si和SiO2 /Si衬底上制备了ZrO2 薄膜 ,采用扩展电阻法 (SRP)研究了薄膜纵向电......
采用新清洗工艺对K9玻璃基片进行了清洗,镀制了多种氧化物介质膜,镀膜后的膜层损伤阈值比一般清洗要高出一倍多。用等离子体光法和......
研究了氧掺杂Ge Sb Te磁控溅射相变薄膜在 4 0 0～ 80 0nm区域的光学常数 (n ,k) ,发现不同氧成分薄膜的光学性质有较大差别 ,经过热......
期刊
采用一种简单的电化学沉积法 ,在三电极化学池中 ,以单一的硝酸锌水溶液作为电沉积液 ,制备了高光学质量的半导体ZnO薄膜。透射光......
以钛酸正丁酯 [Ti(OBu) 4 ]、正硅酸乙酯 (TEOS)为原料 ,采用溶胶 凝胶 (sol gel)提拉方法在K9光学玻璃基片上镀制得高透过的λ/......
为满足高功率激光抽运中氙灯及其防护隔板玻璃宽谱增透的要求,采用提拉镀膜法在K9基片上通过溶胶-凝胶工艺镀制有机硅-SiO2双层宽......
为了对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系进行定量解释,考虑烧蚀产物在惰性气体环境中的动力学过程以及薄膜生长的沉积和二......
采用XeCl准分子激光实现了碳化硅薄膜的脉冲激光晶化,对退火前后薄膜样品拉曼散射谱特征进行了分析,探讨了激光能量密度对纳米碳化......
采用溶胶-凝胶和离子注入复合工艺在氧化的Sio2/Si(100)基片上制备掺Er3+:Al2O3光学薄膜.900℃烧结,掺Er3+:Al2O3薄膜的相结构是γ......
为提高硅基微通道板（silicon-based microchannel plate,Si-MCP）的增益特性,提出采用复合发射层结构取代常规的单发射层结构以改善微......
倾斜入射时滤光片的透射光会出现光路偏移以及光斑模场的形变,所以在测试制备的100GHz低偏振相关损耗的角度调谐滤光片时其透射光......
采用反应射频磁控溅射在Si（100）基片上制备了不同微结构的铝掺杂氧化锆薄膜．利用高分辨透射电子显微镜、X射线衍射仪和原子力显微镜研......
采用离子束溅射在K9玻璃基底上沉积了不同厚度的Cu膜，利用Lambda-900分光光度计，测量了波长为310nm到1300nm范围内Cu膜的反射率和透......
用sol-gel工艺直接在(111)Pt/Ti/SiO2/Si衬底上分别制备了62﹪a/b轴择优、65﹪(014)/(104)择优、高c轴择优取向生长的Bi3.15Nd0.85Ti3O......
采用反应磁控溅射方法,在室温～550℃的沉积温度下,在Si(100)和玻璃基片上沉积了厚度在纳米量级的ZrO2薄膜.通过高分辨电子显微镜、......
利用磁控溅射法 ,在不同的工艺条件下制备氮化钛薄膜。详细分析了不同工艺条件下薄膜的光谱选择特性以及相应的光学常数 ,通过俄歇......
薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标 ,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响 ,采用XeCl脉冲准分子......
利用反应离子束溅射、反应磁控溅射和电子束蒸发在K9基底上沉积ZrO2 薄膜 ,并用原子力显微镜对薄膜表面形貌进行测量。通过数值相......
在广义梯度近似（GGA）下，利用超软赝势对真空条件下SrTiO3超晶胞的体系能量、原子间电子云重叠布局数和电子态密度等进行了自恰计算．结......
多腔窄带薄膜滤光片在倾斜入射时由于偏振光的中心波长会出现分离,会导致其偏振相关损耗迅速增加,严重影响光通信系统的性能。从理......
