非晶碳相关论文
目的 对比研究了聚醚醚酮（PEEK）与不锈钢、CrN涂层、Cr/GLC多层涂层三种配副的大气环境摩擦学行为。方法 采用多靶磁控溅射镀膜技术......
Ti-Al-C-N涂层成分范围广、相结构丰富,为制备性能更优的新三代氮化物硬质涂层提供了良好平台。但四元相图上可获数据有限,Ti-Al-C......
阻变随机存储器（ReRAM）,由于其优异的器件性能极有潜力成为下一代非易失性存储器:结构简单、尺寸缩减能力强、超快的操作速度以及低......
以镀有Mo过渡层的AlO衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)系统中,制备了非晶碳/MoC混合结构薄膜,反应气体为CH和H.在高真......
锂氧电池因其超高的能量密度(理论能量密度11000 wh/kg)以上,接近于汽油-氧气体系的能量密度[1])被人们寄予厚望并引发了全球范围......
非晶碳是一种重要的碳基材料，物理化学性质与晶体金刚石类似的非晶碳膜——类金刚石薄膜在很多领域已经的到了实际的应用1.由于非晶......
The investigation by SEM/TEM, porosity, and X-ray diffraction measurements of the graphitization process starting from a......
剑桥大学开发薄膜碳晶体管技术据ＳｅｍｉｃｏｎｄＩｎｔ’ｌ１９９６年第６期报道，英国剑桥大学已与文莱的一个研究小组合作开发薄膜碳晶体管工艺技术。该技术将实现在......
公开号 ＣＮ１２０４６９８Ａ 申请人 国际商业机器公司 地址 美国纽约州 公开了气相淀积的ＢＡＲＣ和制备基于非晶碳薄膜的可调且可去除的抗反射涂......
用射频磁控溅射法成功地制备了非晶碳薄膜及掺氮非晶碳薄膜。拉曼光谱表征表明所沉积的非晶碳薄膜是非晶结构，具有类金刚石特性。对......
综述了用于超大规模集成电路中互连介质的氟化非晶碳膜（ａ－Ｃ：Ｆ）的制备、化学键结构、介电常数与热稳定性、填隙能力、粘附性、热导率等性能......
氢化非晶碳膜具有硬度高、电绝缘、光学透明、化学性能稳定等优良特性,又称为“类金刚石”碳膜。本文报导由碳氢气体的辉光放电分......
以单质硼和高纯石墨的混合粉末压制成型的靶材作为靶源,采用过滤阴极真空电弧技术制备不同硼含量的掺硼四面体非晶碳膜.分别采用四......
利用电镜中碳沉积现象,使碳沉积在约60(?)厚的非晶碳膜上,在同样实验条件下得到一系列不同厚度的非晶碳膜的电子能量损失谱。从这......
以CH4,CF4,N2为源气体,用RF-PECVD法,通过改变N2流量制备了一批掺氮氟化非晶碳(a-C∶F∶N)薄膜样品。分析了氮掺杂对薄膜微观结构......
磁性金属掺杂非晶碳颗粒膜在光学器件、高密度磁记录和磁性传感器等方面具有重要的应用价值。非晶碳母体中的碳碳成键多变，我们......
采用脉冲偏压电弧离子镀沉积系统在钛合金基体上制备出Ti(C,N)/a-C复合薄膜,系统地研究了相组分对薄膜的形貌、结构和性能的影......
改善关键摩擦副零部件材料的表面防护性能是确保机械系统在海水环境下长寿命稳定运转的一个非常重要的手段。本研究采用多弧离子镀......
随着半导体工业突破22 nm向更小的方向推进,传统的硅材料浮栅结构存储器接近理论极限。作为新型非易失存储器之一的阻变存储器(RRA......
本文研究了非晶碳在4.5 GPa内的P-V关系,发现它在此压力范围内,有一个相变。
In this paper, the P-V relationship of amorphous......
近年来,研究发现纳米铜在催化、电化学等方面有着非常优异的性能,但是易被氧化的缺陷阻碍了其进一步应用,因此制备碳包覆铜金属纳......
利用射频磁控溅射法成功制备了类金刚石薄膜，研究了溅射功率和基片温度对所沉积的薄膜的性能的影响．对所制备的类金刚石薄膜用拉曼光......
在常温常压下,采用脉冲激光作用循环的石墨悬浮液,收集并烘干得到样品B,另一部分用高氯酸进行酸煮提纯提到样品A.对样品A、B分别进......
电子束诱导沉积技术已被证实可以实现各种材料的分形生长,但是目前尚未发现聚焦电子束辐照下低维纳米结构表面未受辐照位置的分形......
作为一种典型的准一维纳米材料,纳米线具有纳米材料所特有的小尺寸效应或纳米曲率效应,经表面修饰的纳米线一般具有不同于普通纳米......
近日,中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室空间润滑材料组,在国际上首次制备了一种具有双重纳米结构的非晶碳薄膜材料......
美NASA Lewis研究中心发表了一份报告,介绍利用甲烷或乙烷气体采用低频等离子沉积技术在室温下制造一种非晶碳氢(a-C:H)薄膜。这......
研究了退火对类金刚石碳膜结构和性能的影响.结果表明:低于400℃退火对膜的结构、电阻率、硬度无明显影响;高于400℃退火,由于膜中......
本文介绍了对辉光放电法制备的氢化非晶碳薄膜的时间分辨瞬态光致复合发光衰减的研究，分析了它对沉积温度、发射能量和激发能量的依......
利用真空磁过滤弧沉积(FAD)技术制备得到了无氢的非晶碳膜.由于非晶碳膜中数量极高的四面体键(sp~3键)的存在,这种非晶碳膜也可被......
给出了利用红外透射光谱计算金刚石薄膜中ＳＰ２／ＳＰ３键价比，从而判断金刚石薄膜质量的判断技术。这种方法给出了薄膜质量的定量判断，甚至当由于......
本文利用一种新的等离子体沉积技术—真空磁过滤弧沉积（ＦＡＤ）制备得到一种无氢的非晶碳膜。ＥＥＬＳ分析表明，这种非晶碳膜几乎不含有ｓｐ２和ｓｐ杂化键，呈现......
在２００ｋｅＶ重离子加速器上，使用１２０ｋｅＶ的Ｈ＋，Ｈｅ＋，Ｎ＋，Ａｒ＋等离子对Ｃ６０分子薄膜进行了辐射处理，对辐射后Ｃ６０膜的Ｒａｍａｎ谱进行了系统地分析研究．离子辐射会影响Ｃ６０薄膜的结构，不同的辐射......
用苯作源气体在一个微波电子回旋共振等离子体系统中沉积了含氢非晶碳薄膜 ,研究了沉积参数对膜的生长速率的影响。为了探索该种薄......
用质量分离的低能离子束沉积技术得到了非晶碳薄膜 ,X射线衍射、Raman谱以及俄歇深度谱的线形表明 ,此种非晶碳膜中镶嵌着金刚石颗......
用微波等离子体化学气相沉积设备,在陶瓷/金属钼薄膜衬底上沉积出了氮掺杂非晶碳膜,分别用扫描电子显微镜(SEM),金相显微镜及Raman......
In this paper the effect of magnetron sputtering with DLC (diamond like carbon), DLC-F and AC on CaSO 4 scale formatio......
用紫外 可见光透射光谱 (UV VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱 (XPS)和红外谱 (FTIR)分析 ,研究了电子回旋共振等离子体增强化......
离子辅助轰击能有效改善非晶碳 (a -C)膜的质量 .用脉冲激光 ( 5 32nm ,3.5× 10 8W cm2 )烧蚀石墨靶 ,同时用Ar+轰击膜面 ,在Si( ......
