薄膜研究相关论文
碳化硅是目前宽带隙半导体材料研究的热点之一。它具有禁带宽度大，热导率高，电子的饱和和漂移速度大，临界击穿电场强度和介电常数低等......
研究了等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）法制备ＳｉＯｘＮｙ膜工艺中混合气体配比与薄膜中氮、氧含量间的变化关系以及对膜层折射率、介电常数的影响。......
采用金属有机物热分解（ＭＯＤ）法，通过对原料的提纯和合成工艺的优化，消除原料中的微量杂质，控制环境温度，从而获得了透明、稳定的锆钦酸铅先体......
本文详细介绍了自行研制成功的电子回旋共振微波等离子体装置的结构、性能和技术指标。并应用高斯计、法拉第筒和朗缪探针对装置的......
半导体金刚石单晶薄膜研究进展王耀水（荷兰Ｎｉｊｍｅｇｅｎ大学，材料研究所）ＰｒｏｇｒｅｓｓｏｆＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇＤｉａｍａｎｄＳｉｎｇｌｅＣｒｙｓｔａｌＦｉｌｍｓＷａｎｇＹａｏｓｈｕｉ（ＲｅｓｅａｒｃｈＩｎｓｔｉｔｕｔｅｆｏｒＭａｔｅｒｉａ...
Research progress of semiconductor diamond single crystal film ......
以扫描电镜（SEM）和X射线光电子能谱（XPS）等多种测试手段研究分析了用反应脉冲激光淀积技术制备的PbS薄膜。分析结果表明，利用该淀积方法......
叙述了钛酸铅系薄膜的热释电原理，介绍了国际上近几年钛酸铅系薄膜材料、制备工艺及热释电性能，并与块状陶瓷材料进行了比较，分析表明......
报道了用叠加能量Ｓｉ＋、Ｎ＋共注入ＳｉＯ２薄膜研究硅基发光材料。Ｓｉ＋、Ｎ＋先后注入ＳｉＯ２薄膜，并在衬底中重叠。样品退火后在紫外光激发下，可以观察到很强的紫外......
薄膜研究是近些年来迅速发展的科学技术领域之一，尤其是原子尺度人工超晶格材料的生长，引起了对凝聚态物理和材料科学研究与应用的极......
由中国真空学会薄膜专业委员会主办 ,并由中国电子学会半导体与技术学会、电子材料学会、量子电子学与光电子学学会、中国光学学会......
综合评述·宽禁带ＧａＮ基半导体激光器进展2 2 - 1- 0 1……………………………………ＳＯＩ集成光电子器件2 2 - 1- 0 7…………………………......
相当于约5万分之一的人体头发直径的纳米硅线,日前在香港城市大学研制完成。这项世界最细的纳米硅线科研成果,已刊登在国际著名的......
一、引言 近年来，对溶胶-凝胶法合成含有机基团的硅酸盐（Organically Modified Sllicatos)材料已有不少报导~（[1～4]）。作者曾用此法合成......
请下载后查看，本文暂不支持在线获取查看简介。
Please download to view, this article does not support online access to view......
膜的一维尺寸大大小于其余两维。一般把厚度小于1μm的膜称为薄膜,反之则称为厚膜。由于薄膜材料具有许多优异性能,因此近年来薄膜......
请下载后查看，本文暂不支持在线获取查看简介。
Please download to view, this article does not support online access to view......
(六)马赛薄膜研究中心法国马赛薄膜研究中心是马赛第三大学及科研中心共同领导的研究机构,它是一个国际性科学研究集团,常称为马......
本文作者介绍了法国一个高水平的光学实验室——法国薄膜研究中心的概况及近年来该实验室的研究方向和主要研究成果。
The author......
日本高科技协会，于1996年11月6日-8日在美国夏威夷火努鲁鲁的日本东海大学太平洋中心组织召开了稀土超磁致伸缩材料基础和应用研究......
概述了新型超硬材料——氮化碳(C_3N_4)的晶体结构和合成C_3N_4的实验方法,以及C_3N_4薄膜的TED,XRD,XPS,FTIR,Raman和Hv的测试分......
用电子探针作微区薄膜厚度测定与组份分析是对薄膜研究、半导体研究等方面很有意义的课题。1972年Reuter导出关系式:I_F、I_∞分......
中国光学学会于1982年1月4日至8日在北京召开首届光学薄膜学术交流会,会上同时宣布正式成立光学薄膜专业委员会。
China Optical......
薄膜和表面层的真空沉积，可用物理方法、化学气相或表面反应以及这些基本原理的组台应用等来实现。以一些工业镀膜装置为例，说明大面......
本文报道一种适于做a-Si电池窗口材料的高电导宽带隙微晶-非晶Si:H薄膜。这种材料采用辉光放电法在高功率下分解SiH_4和B_2H_6混合......
当今,薄膜科学已经发展成为内容极其丰富,研究十分活跃的独立学科.薄膜研究工作者在学科研究中,首先致力于薄膜制备技术研究,并迅......
本文用通氧反应溅射法制备了Ｓｉ－Ｃｒ－Ｎｉ－Ｏ薄膜，用ＡＥＳ和ＸＰＳ测定和分析了所制得的薄膜，发现靶村组份配比的改变将导致构成薄膜的化合物种类的改变，Ｓｉ含量的提......
本文研究了不同烧结温度的陶瓷靶材对溅射所得到的Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ＿３薄膜的成分、结构和性能的影响。结果表明，由１２００℃时烧结的靶所制备的薄膜中ＰｂＯ的含量偏......
本文讨论了ＩＴＯ膜的稳定性和刻蚀特性。比较了多种ＩＴＯ膜的刻蚀液，得出加热至１００℃的４５％ＨＩ溶液和加热至５０℃的ＨＣＩ和ＨＮＯ３的混合溶液人的刻蚀特性较为理想。
Th......
简述了立方氮化硼的优异性能、国内外研究立方氮化硼薄膜的历史、现状、应用前景及存在的问题.
The excellent performance of cu......
简要介绍了非线性光学薄膜制备技术的进展，分析比较了无定形膜、极化取向膜、ＬＢ膜及单晶膜在制备与应用方面的优缺点。
The progress......
本文概述了新型超硬材料氮化碳（β－Ｃ３Ｎ４）的提出、发现及物化性质，目前国内外研究最新进展和它的应用前景。
This paper summarizes the ne......
页次……J住月月‘八几乃性一匀︸协亡J u.曰刀曰﹃卜 题名环境材料发展与展望—第二届国际环境材料大会综述新型碳材料的发展趋势梯度......
脉冲激光制膜是近年来发展的富有希望的制膜新技术。本文简要介绍了脉冲激光制膜技术的原理、特点和优势以及在功能薄膜研究中的应......
立方氮化硼（ｃ－ ＢＮ） 在机械、热、电子及光学方面有许多优异性能，因此世界上有很多研究人员从事ｃ－ ＢＮ 薄膜制备的研究，近年来薄膜沉积技术和ｃ－ ＢＮ 薄......
以镍的醇盐为前驱体并加入催化剂和各种添加剂制成涂膜溶液,采用浸涂-提拉法(dip-coating)制备NiOx电致变色膜。讨论了先体胶液的......
本文综述了 AZO透明导电薄膜的结构特点 ,电学和光学的特性 ,薄膜研究、应用和开发现状 ,认为AZO薄膜具有较好的开发前景
In this......
实验研究了pH值对化学沉积制备CdS薄膜性质的影响。表明:在柠檬酸钠作为络合剂的体系中随着溶液中氨水浓度的提高CdS薄膜会发生相......
光催化TiO2薄膜的溅射沉积技术………………………姜燮昌1(1)真空铸造技术的研究现状……………………………王新,等1(6)靶基距对......
Ba_xSr_(1-x)TiO_3(BST)薄膜具备高的介电可调特性(介电常数在外加电场的作用下会发生改变)和低的介电损耗,这使得BST薄膜成为高速......
